[发明专利]一种显示基板和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110230986.1 申请日: 2021-03-02
公开(公告)号: CN112951851A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 苌川川;栾兴龙;冯京;王志冲;刘鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 黄灿;顾春天
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 显示 显示装置
【说明书】:

发明提供一种显示基板和显示装置。显示基板包括衬底、源漏金属层、半导体层和栅金属层,源漏金属层形成于衬底上,源漏金属层包括数据线图形,且数据线图形与半导体层相连,半导体层位于源漏金属层远离衬底的一侧,栅金属层位于半导体层远离衬底的一侧。本发明实施例通过将半导体层设置于源漏金属层远离衬底的一侧,栅金属层设置于半导体层远离衬底的一侧,也就是说,源漏金属层更靠近衬底,制作过程中,首先制作源漏金属,接下来制作半导体层,最后制作栅金属层,源漏金属层和衬底之间的结构相对较少,如果源漏金属层存在残留,对于源漏金属层的修复对其他结构造成的影响相对较小,有助于提高显示基板的可修复性,从而提高产品的良品率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板和显示装置。

背景技术

显示基板通常包括位于衬底上的薄膜晶体管,一般来说,薄膜晶体管包括沿远离衬底方向设置的半导体层、栅极绝缘层、栅极层和源漏金属层,其中,源漏金属层包括数据线,数据线通常采用易导电的金属材料制作,以传递数据信号。然而金属材料在刻蚀过程中可能会有一定的残留,这些残留可能带来结构短路等不利影响。这种短路是可以通过修复手段修复,然而由于数据线和栅极层较为接近,对于数据线和栅极层交叠的区域的修复操作可能导致栅极层损坏,从而造成产品不可修复的损伤,因此,源漏金属层刻蚀残留可能导致显示基板的良品率降低。

发明内容

本发明实施例提供一种显示基板和显示装置,以解决源漏金属层刻蚀残留可能导致显示基板的良品率降低的问题。

第一方面,本发明实施例提供了一种显示基板,包括衬底、源漏金属层、半导体层和栅金属层,所述源漏金属层形成于所述衬底上,所述源漏金属层包括数据线图形,且所述数据线图形与所述半导体层相连,所述半导体层位于所述源漏金属层远离所述衬底的一侧,所述栅金属层位于所述半导体层远离所述衬底的一侧。

可选的,所述源漏金属层与所述衬底直接接触。

可选的,所述栅金属层包括栅信号线,所述栅信号线在在所述衬底上的正投影和所述半导体层在所述衬底上的正投影存在交叠区域,所述源漏金属层还包括光阻挡图形,所述光阻挡图形位于所述半导体层和所述衬底之间,所述光阻挡图形在所述衬底上的正投影覆盖所述交叠区域,所述光阻挡图形与所述数据线图形相分离。

可选的,所述显示基板包括第一绝缘层和第二绝缘层,所述第一绝缘层位于所述半导体层和所述源漏金属层之间,所述第二绝缘层位于所述半导体层和所述栅金属层之间,所述栅金属层包括第一导电结构,所述半导体层通过第一导电结构与所述源漏金属层相连。

可选的,所述显示基板包括第一过孔,所述第一过孔贯穿所述第一绝缘层、所述半导体层和所述第二绝缘层,所述第一导电结构通过所述第一过孔与所述源漏金属层远离所述衬底的一侧表面相连,所述半导体层包括第一导电图形和第二导电图形,所述半导体层还包括薄膜晶体管的有源层,所述第一导电图形、所述有源层和所述第二导电图形依次连接,所述第一导电结构与所述第一导电图形相连。

可选的,所述第一导电结构位于所述半导体层远离所述衬底的一侧的部分在所述衬底上的正投影与所覆盖所述第一过孔在所述衬底上的正投影,且所述第一导电结构与所述半导体层远离所述衬底的一侧表面相接触。

可选的,所述显示基板还包括沿远离所述衬底的方向依次层叠设置的公共电极层、第三绝缘层和像素电极层,所述栅金属层还包括第二导电结构,所述第二导电结构与所述像素电极层相连,且所述第二导电结构与所述第二导电图形相连。

可选的,所述显示基板包括第二过孔,所述第二过孔贯穿所述半导体层和所述第二绝缘层,所述第二导电结构通过所述第二过孔与所述像素电极层相连,且所述第二导电结构通过所述第二过孔与所述半导体层相连。

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