[发明专利]一种异形PET遮光圈结构及成型工艺

权利要求书

1.一种异形PET遮光圈结构，具有圆形的片本体，其特征在于：片本体的中心设置有透光孔，透光孔为扩口状，所述片本体包括依次设置的第一遮光层、第一PET层、中间层、第二PET层和第二遮光层，第一遮光层的内径为D1，第一PET层的内径为D2，中间层的内径为D3,第二PET层的内径为D，第二遮光层的内径为D5，且内径D1内径D2内径D3内径D4内径D5。

2.根据权利要求1所述的一种异形PET遮光圈结构，其特征在于：所述中间层为碳素层。

3.根据权利要求1所述的一种异形PET遮光圈结构，其特征在于：所述第一遮光层和第二遮光层均为油墨层。

4.一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于，包括如下成型步骤：

S1、在第一PET层上表面涂覆第一遮光层，下表面涂覆中间碳素层；

S2、在中间碳素层的下表面粘接第二PET层，并在第二PET层下表面涂覆第二遮光层，形成遮光带；

S3、将遮光带进行冲切以形成单个的遮光片本体；

S4、将遮光片本体进行预冲孔形成扩口状的工艺孔；

S5、将遮光片本体置于溶液中对扩口状的工艺孔中的PET层进行表面溶解成型。

5.根据权利要求4所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：在S5步骤中，所述溶液为氢氧化钾、氢氧化钠或氢氧化锂。

6.根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钾溶液浓度为50％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钾溶液浓度为40％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。

7.根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化钠溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化钠溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。

8.根据权利要求5所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：所述溶解成型包括第一次成型、第二次成型和清洗，所述第一次成型的氢氧化锂溶液浓度为35％，温度为40℃；所述第二次成型的氢氧化锂溶液浓度为30％，温度为35℃，第二次成型后将遮光片本体进行残余清洗。

9.根据权利要求4所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：在S1步骤中，所述第一遮光层包含有硅烷偶联剂。

10.根据权利要求9所述的一种异形PET遮光圈结构的成型工艺，其特征在于：在S2步骤中，所述第二遮光层包含有硅烷偶联剂。