[发明专利]微发光元件、微发光二极管及其转印方法有效
| 申请号: | 202110228310.9 | 申请日: | 2018-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN112786642B | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
| 发明(设计)人: | 丁绍滢;范俊峰;李佳恩;徐宸科 | 申请(专利权)人: | 厦门市三安光电科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15;H01L33/00 |
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| 地址: | 361009 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 发光 元件 发光二极管 及其 方法 | ||
1.微发光元件,包括:
若干个微发光二极管,其中每个微发光二极管独立耦合发光,若干个大于等于1;
基架,设置为支撑微发光二极管,基架包括容置微发光二极管的凹槽;
桥臂,用于连接微发光二极管和基架;
其特征在于:在微发光二极管远离凹槽的上表面具有凸起,桥臂位于凸起和凹槽之间。
2.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:凸起高于桥臂,且凸起的高度为0.5μm到1μm、1μm到3μm或3μm到5μm。
3.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:凸起与微发光二极管为相互独立的结构。
4.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:微发光二极管包括半导体外延层,凸起与微发光二极管为一体结构,凸起的材料至少与半导体外延层的其中一种成分相同。
5.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:凸起的材料包括半导体外延层、波长转换材料、透明绝缘材料或其中任意种组合。
6.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:凸起的材料包括N型半导体、多量子阱、P型半导体、二氧化硅、氮化硅、硅胶、树脂、紫外胶、二氧化钛或其中任意种组合。
7.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:微发光元件中具有矩阵排布的微发光二极管。
8.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:微发光二极管具有从2μm到5μm、 从5μm到10μm、从10μm到20μm、从20μm到50μm或从50μm到100μm的宽度,或者微发光二极管具有从2μm到5μm、 从5μm到10μm、从10μm到20μm、从20μm到50μm或从50μm到100μm的长度。
9.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:桥臂的材料为介电质、金属或者半导体材料。
10.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:微发光二极管下表面具有第一电极和第二电极。
11.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:微发光二极管通过印刷印模转印与基架分离。
12.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:微发光元件具有不同高度的凸起,不同高度的凸起下方为不同的发光二极管,不同的发光二极管具有不同的形状、不同的波长、不同的亮度或者不同的色温。
13.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:凸起的形状为方台、筒状、圆台或者圆柱。
14.根据权利要求1所述的微发光元件,其特征在于:至少部分凸起位于桥臂上。
15.微发光二极管,至少具有半导体外延层和桥臂,其特征在于:还包括凸起,至少部分凸起位于桥臂上。
16.根据权利要求15所述的微发光二极管,其特征在于:凸起的高度为0.5μm到1μm、1μm到3μm或3μm到5μm。
17.根据权利要求15所述的微发光二极管,其特征在于:凸起与微发光二极管为一体结构,凸起的材料至少与半导体外延层的其中一种成分相同。
18.根据权利要求15所述的微发光二极管,其特征在于:凸起的材料包括半导体外延层、波长转换材料、透明绝缘材料或其中任意种组合。
19.根据权利要求15所述的微发光二极管,其特征在于:凸起的形状为方台、筒状、圆台或者圆柱。
20.根据权利要求15所述的微发光二极管,其特征在于:桥臂为断裂脱离后的部分结构。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





