[发明专利]一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室

说明书

本发明公开了一种用于洁净室的支撑基座，包括至少1个支撑柱、以及架设于所述支撑柱上的支撑板；支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层，下层包括至少一层支撑结构层；所述支撑结构层由交错设置的上层钢管组层和下层钢管组层构成，所述上层钢管组层和下层钢管组层均由复数根紧挨着的钢管固定连接构成；所述支撑板的侧面四周设有至少1个连接钢板，该连接钢板的位置与所述支撑柱一一对应设置。本发明的支撑基座尤其适用于高架地板高度较高(高架地板的高度为1500～3600mm)的场合，不仅可以保证良好的支撑，而且保证了X、Y、Z三个方向的刚性，实现了将优质的微振品质搬到较高的位置来使用。

技术领域

本发明涉及洁净生产技术领域，具体涉及一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室。

背景技术

洁净室是指对空气洁净度、温度、湿度、压力、噪声等参数根据需要都进行控制的密闭性较好的空间，洁净室的发展与现代工业、尖端技术密切联系在一起。由于精密机械工业(如陀螺仪、微型轴承等加工)、半导体工业(如大规模集成电路生产)等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过，在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10～15％，64位储存器仅2％。因此，目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。

现有技术中，洁净室包括洁净空间、天花板以及高架地板，天花板上设有复数个送风区，每个送风区包括至少一个送风机构，高架地板设有复数个排风区，送风机构通常为FFU装置，FFU装置的作用是送风和过滤较大颗粒污染物，将洁净的空气送入洁净空间内，然后，空气流入高架地板下方的回风空间，最后通过回风通道回到天花板上方的送风区，形成循环。

另一方面，高科技产业晶圆厂、半导体厂及光电厂中的生产设备本身重量较大，要求安放这些生产设备的支撑基座具有极高的刚性，因此现有技术中一般采用钢筋混凝土基座(现有的钢筋混凝土基座主要包括上方的钢筋混凝土层和下方的多根支撑柱，类似桌子的结构，且下方的支撑柱之间设有斜向支撑结构)；而且，生产设备在使用过程中会发生微震动，为了保证设备正常运作以及产品的生产质量，要求安放这些生产设备的支撑基座具有良好的防震性能。现有技术中，支撑基座是设于高架地板之中的，两者一起构成高架地板的表面。现有的支撑基座结构主要由上方的钢筋混凝土层和下方的多根支撑柱构成，形成类似桌子的结构。

此外，由高架地板隔离出来的下层回风空间的高度通常由3种：小于600mm、小于900mm以及1500～3600mm；对于最后一种高尺寸的洁净室，由于其高架地板的表面到大地的高度一般在1.5m到3.6m，由于高度愈高，水平晃动就愈大，因此，对于应用于该高架地板的支撑基座的微震等级就提出了很高的要求：(1)由于要求竖直方向的微震等级要高，所以现有技术中的支撑基座的钢筋混凝土层的厚度非常大(一般在200～600mm)；(2)由于要求水平方向的微震等级要高，所以现有技术中的支撑基座下方的支撑柱会设置斜向支撑结构，而这些斜向支撑结构占用了大量的空间，挡住了工艺配管(水、特气、化学、风管、电缆等)，影响了工艺二次配的空间规划。

因此，开发一种改进的支撑基座以及洁净室，以解决工艺二次配的空间规划问题，并维持其微震等级要求，显然具有积极的现实意义。

发明内容

本发明的目的是提供一种支撑基座以及采用该支撑基座的高架地板和洁净室。

为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种用于洁净室的支撑基座，包括至少1个支撑柱、以及架设于所述支撑柱上的支撑板；

所述支撑板包括上下两层，上层为钢筋混凝土层，下层包括至少一层支撑结构层；所述支撑结构层由交错设置的上层钢管组层和下层钢管组层构成，所述上层钢管组层和下层钢管组层均由复数根紧挨着的钢管固定连接构成，且上层钢管组层和下层钢管组层固定连接；

所述支撑板的侧面四周设有至少1个连接钢板，该连接钢板的位置与所述支撑柱一一对应设置；所述连接钢板的顶面与所述支撑柱连接，其侧面与所述支撑板固定连接。