[发明专利]一种改进的草酸铟溶解剂组合物及蚀刻设备清洗工艺

说明书

本发明公开了一种改进的草酸铟溶解剂组合物，主要组分为碱性组分、螯合剂、pH值调节剂和水，螯合剂主要组成为螯合剂A和螯合剂B，螯合剂A为选自氨基多羧酸及其盐中的至少一种，螯合剂B为羟基多羧酸及其盐中的至少一种，改进的草酸铟溶解剂组合物的pH值为9.5～10.5。本发明改进的草酸铟溶解剂组合物采用复配螯合剂体系，利用两种螯合剂在草酸铟溶解剂组合物体系下具有协同的螯合性能，增加草酸铟的溶解度并且提高溶解速率。本发明还公开了一种基于草酸铟溶解剂组合物的蚀刻设备清洗工艺。

技术领域

本发明涉及电子化学品技术领域，具体涉及一种改进的草酸铟溶解剂组合物及蚀刻设备清洗工艺。

背景技术

草酸型蚀刻液与ITO膜的作用机理是通过草酸的螯合效应，将ITO、IZO的主要成分铟络合形成草酸铟从而进行溶解蚀刻。上述蚀刻液的长期连续使用，会导致草酸铟不能完全溶解在蚀刻液中并沉积在湿法蚀刻的装置内，具体的草酸铟结晶会沉积到配管、阀门、过滤器、泵、喷嘴、基板转移辊、蚀刻机台、缓冲液罐内壁等位置，沉积草酸铟的装置会影响后续蚀刻效果。

CN101876076A公开了一种改进的草酸铟溶解剂组合物及其清洗方法，组合物中包含碱性成分以及从氨基多羧酸及其盐中选择的1种或2种以上的水溶液。溶解剂组合物的pH为9～11，组合物中组分的优选含量为从氨基多羧酸中选择的化合物的浓度为1～20重量％；从氨基多羧酸胺盐组成的群中选择的化合物的浓度为1～20重量％，氨基多羧酸是从乙二胺二乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、三乙烯四胺六乙酸、反式-1，2-环己烷二胺四乙酸中选择的；氨基多羧酸的盐为乙二胺二乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、三乙烯四胺六乙酸、反式-1，2-环己烷二胺四乙酸的胺盐；碱性成分为氨、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化四甲基铵的任意一种。CN101876076A的具体实施方式部分记载，基于相同的碱性物质组成，乙二胺四乙酸的浓度越大，草酸铟的溶解量越大，其中乙二胺四乙酸的含量达10％、氨5％、pH值为10.7时，40℃下搅拌4小时，草酸铟的溶解量达5.7％。即pH值达到10-11附近的氨浓度5～10重量％范围内，草酸铟溶解量显示出最大值。

进一步的，CN109234072A中公开了通过在溶解体系中加入氯离子加速溶解草酸铟的技术方案，但是氯离子的加入容易造成设备的卤素污染，影响后期铜制程或者铝制程工艺蚀刻。如何提高溶解量和溶解速率，是本领域技术人员需要攻克的技术问题之一。

发明内容

本发明的目的之一在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种改进的草酸铟溶解剂组合物，上述组分中采用复配的螯合剂，提高草酸铟的溶解速度和溶解量。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：一种改进的草酸铟溶解剂组合物，主要组分为碱性组分、螯合剂、pH值调节剂和水，所述螯合剂主要组成为螯合剂A和螯合剂B，所述螯合剂A为选自氨基多羧酸及其盐中的至少一种，所述螯合剂B为羟基多羧酸及其盐中的至少一种，所述改进的草酸铟溶解剂组合物的pH值为9.5～10.5。

优选的技术方案为，所述碱性组分为季铵碱、氨水和弱酸铵盐中的一种或两种以上的组合。

优选的技术方案为，所述螯合剂A为选自氨基多羧酸中的至少一种，所述螯合剂B为羟基多羧酸中的至少一种。

优选的技术方案为，所述氨基多羧酸包括乙二胺四乙酸、亚氨基二琥珀酸、二乙基三胺五乙酸、氮川三乙酸；和/或所述羟基多羧酸包括柠檬酸、羟基柠檬酸、酒石酸、苹果酸。

优选的技术方案为，以草酸铟溶解剂组合物的重量为100％计，所述碱性组分的重量百分比为3～15％，所述螯合剂的重量百分比为3～15％，所述螯合剂A的重量百分比不小于螯合剂B的重量百分比。

优选的技术方案为，以草酸铟溶解剂组合物的重量为100％计，，所述螯合剂A的重量百分比为3～7％，所述螯合剂B的重量百分比为3～7％。更优选的，螯合剂A的重量百分比为4～6％，所述螯合剂B的重量百分比为4～6％。