[发明专利]一种基于光场调控技术的激光清洗装置在审
| 申请号： | 202110223781.0 | 申请日： | 2021-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN112859354A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 胡友友;陈康;张明明;窦健泰;荆庆丽;刘俊 | 申请（专利权）人： | 江苏科技大学 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;B08B7/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 王美丽 |
| 地址： | 212008 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 调控 技术 激光 清洗 装置 | ||
1.一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，包括依次设置的激光器(1)、扩束准直系统(8)、光场调控镜组(3)和动态聚焦镜组(4)，所述的激光器(1)经过扩束准直系统(8)后入射到光场调控镜组(3)，所述的光场调控镜组(3)将激光器(1)输出的高斯光束(2)整形后经过动态聚焦镜组(4)实现长焦深聚焦。
2.根据权利要求1所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的光场调控镜组(3)将激光器(1)输出的高斯光束(2)整形为贝塞尔高斯光束(41)、涡旋光束(61)、径向偏振光束(62)、角向偏振光束(63)。
3.根据权利要求1或2所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的光场调控镜组(3)采用轴锥镜(31)、波片或可变涡旋波片(5)。
4.根据权利要求3所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的波片包括四分之一波片(32)和二分之一波片(33)。
5.根据权利要求3所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的光场调控镜组(3)采用轴锥镜(31)将高斯光束(2)整形成贝塞尔光束(41)。
6.根据权利要求3所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的光场调控镜组(3)采用四分之一波片(32)和可变涡旋波片(5)将高斯光束(2)整形成涡旋光束(61)。
7.根据权利要求3所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的光场调控镜组(3)采用二分之一波片(33)和可变涡旋波片(5)将高斯光束(2)整形成径向偏振光束(62)或角向偏振光束(63)。
8.根据权利要求3所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述光场调控镜组(3)的后方设有移动工作台(7)，所述的移动工作台(7)上放置有待清洗材料。
9.根据权利要求1所述的一种基于光场调控技术的激光清洗装置，其特征在于，所述的动态聚焦镜组(4)包括多个透镜，能够同时实现光斑大小和焦距的动态变化。
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