[发明专利]一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔在审
申请号: | 202110221463.0 | 申请日: | 2021-02-27 |
公开(公告)号: | CN113025989A | 公开(公告)日: | 2021-06-25 |
发明(设计)人: | 邓新宇 | 申请(专利权)人: | 河南芯钻新材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/511 |
代理公司: | 河南商盾云专利代理事务所(特殊普通合伙) 41199 | 代理人: | 王甜 |
地址: | 453000 河南省新乡市平原示范*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微波 化学 沉积 生长 金刚石 分合 空腔 | ||
1.一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,包括支撑板(1)、下真空腔法兰(2)与上真空腔法兰(3),其特征在于:所述支撑板(1)的顶部设置有下真空腔法兰(2),所述下真空腔法兰(2)的顶部设置有上真空腔法兰(3),所述下真空腔法兰(2)和上真空腔法兰(3)是可分合的,所述下真空腔法兰(2)的顶部开设有密封结构,所述密封结构包括胶圈密封结构(4)和气压密封结构(5)。
2.根据权利要求1所述的一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述下真空腔法兰(2)与上真空腔法兰(3)通过均匀分布的螺丝结构进行加紧固定。
3.根据权利要求1所述的一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述下真空腔法兰(2)与上真空腔法兰(3)可通过均匀分布的其它结构进行加紧固定。
4.根据权利要求1所述的一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述胶圈密封结构(4)至少在最外圈设置一圈。
5.根据权利要求1所述的一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述气压密封结构(5)由下真空腔法兰(2)和上真空腔法兰(3)的表面槽状结构构成,通过内充超过一个大气压的气体实现密封。
6.根据权利要求5所述的上一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述槽状结构可在下真空腔法兰(2)上,且相应的所述上真空腔法兰(3)处为平面结构,且所述槽状结构可在上真空腔法兰(3)的下表面,且相应的所述下真空腔法兰(2)处为平面结构。
7.根据权利要求5所述的上一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述槽状结构内开设有充气孔(50),且所述充气孔(50)通入的气体可为超过一个大气压的氢气,且所述充气孔(50)通入的气体可为超过一个大气压的者氩气,且所述充气孔(50)通入的气体可为超过一个大气压的氩氢混合气。
8.根据权利要求1所述的上一种微波化学气相沉积法生长金刚石的可分合真空腔,其特征在于:所述胶圈密封结构(4)和气压密封结构(5)可以开设多圈,且所述胶圈密封结构(4)和气压密封结构(5)可以开设组合多圈,且所述胶圈密封结构(4)和气压密封结构(5)可以开设间隔的组合多圈。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的