[发明专利]显影处理装置和显影处理方法

权利要求书

1.一种显影处理装置，其用于对基板上的抗蚀膜进行显影，其中，

该显影处理装置具有：

基板保持部，其将基板保持为水平；

旋转机构，其使所述基板保持部绕铅垂轴线旋转；

第1显影液供给部和第2显影液供给部，它们向保持于所述基板保持部的基板供给显影液；以及

液接收部，其接收来自保持于所述基板保持部的基板的显影液，

所述第1显影液供给部形成为俯视时小于基板的直径的长度，

所述第2显影液供给部形成为俯视时大于等于基板的直径的长度，

所述液接收部具有第1环状壁和第2环状壁，该第1环状壁和第2环状壁形成为具有俯视时直径大于基板的直径的圆状的开口的环状，

所述第2环状壁设于所述第1环状壁的上方，

所述第1环状壁和所述第2环状壁构成为能够彼此独立地升降，所述第1环状壁与所述第2环状壁的铅垂方向上的距离可变。

2.根据权利要求1所述的显影处理装置，其中，

在从所述第2显影液供给部供给显影液时，所述第1环状壁和所述第2环状壁位于比保持于所述基板保持部的基板靠下侧的位置，

在从所述第1显影液供给部供给显影液时，所述第1环状壁位于比保持于所述基板保持部的基板靠上侧的位置，所述第2环状壁位于比所述第1环状壁靠上侧的位置。

3.根据权利要求1或2所述的显影处理装置，其中，

与从所述第2显影液供给部供给显影液时相比，所述第1环状壁与所述第2环状壁的铅垂方向上的距离在从所述第1显影液供给部供给显影液时较大。

4.根据权利要求1或2所述的显影处理装置，其中，

所述第1环状壁具有从该第1环状壁的上表面向该第1环状壁的下表面贯通的贯通孔。

5.根据权利要求1或2所述的显影处理装置，其中，

所述第2显影液供给部在供给显影液时，沿着保持于所述基板保持部的基板的表面移动。

6.根据权利要求1或2所述的显影处理装置，其中，

在俯视时比液接收部靠外侧的位置具有待机部，

所述第1显影液供给部在未使用时，在俯视时位于所述待机部上。

7.根据权利要求1或2所述的显影处理装置，其中，

所述第1显影液供给部在供给显影液时，在俯视时，在保持于所述基板保持部的基板上移动。

8.根据权利要求1或2所述的显影处理装置，其中，

该显影处理装置具有使基板升降的升降构件，

所述第1环状壁和所述第2环状壁在所述基板利用所述升降构件上升了的状态下进行升降。

9.一种显影处理方法，该方法使用显影处理装置来对基板上的抗蚀膜进行显影，其中，

所述显影处理装置具有：

基板保持部，其将基板保持为水平；

旋转机构，其使所述基板保持部绕铅垂轴线旋转；

第1显影液供给部和第2显影液供给部，它们向保持于所述基板保持部的基板供给显影液；以及

液接收部，其接收来自保持于所述基板保持部的基板的显影液，

所述第1显影液供给部形成为俯视时小于基板的直径的长度，

所述第2显影液供给部形成为俯视时大于等于基板的直径的长度，

所述液接收部具有第1环状壁和第2环状壁，该第1环状壁和第2环状壁形成为具有俯视时直径大于基板的直径的圆状的开口的环状，且该第1环状壁和第2环状壁构成为能够升降，

所述第2环状壁设于所述第1环状壁的上方，

所述显影处理方法具有向保持于所述基板保持部的基板供给显影液的工序，

在供给所述显影液的工序中，

在从所述第2显影液供给部供给显影液的情况下，在所述第1环状壁和所述第2环状壁配置于比保持于所述基板保持部的基板靠下侧的位置的状态下，供给显影液，

在从所述第1显影液供给部供给显影液的情况下，在所述第1环状壁配置于比保持于所述基板保持部的基板靠上侧的位置，且所述第2环状壁配置于与从所述第1显影液供给部供给显影液的情况相比远离所述第1环状壁的位置的状态下，供给显影液。