[发明专利]吸附装置、成膜装置、吸附方法、成膜方法及电子器件的制造方法在审
申请号: | 202110219949.0 | 申请日: | 2021-02-26 |
公开(公告)号: | CN113322444A | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 石井博;诸桥悟;川畑奉代;柏仓一史;富井广树;细谷映之;上田利幸 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社;阿奥依株式会社;株式会社沙迪克 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50;C23C14/24;C23C14/04;C23C14/56;C23C14/54;H01L21/683;H01L51/56 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 邓宗庆 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吸附 装置 方法 电子器件 制造 | ||
1.一种吸附装置,其特征在于,具有:
支撑单元,所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部,所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面;
吸附部件,所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体;以及
多个推压构件,所述多个推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体,
所述多个推压构件分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的至少两个角部对应的位置。
2.一种吸附装置,其特征在于,具有:
支撑单元,所述支撑单元支撑被吸附体的第一主面的周缘部,所述被吸附体具有所述第一主面和该第一主面的相反侧的第二主面;
吸附部件,所述吸附部件从所述被吸附体的所述第二主面侧吸附所述被吸附体;
推压构件,所述推压构件用于从所述被吸附体的所述第二主面侧推压所述被吸附体;
容器,所述容器在内部配置有所述支撑单元、所述吸附部件及所述推压构件;
支撑单元移动机构,所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动;以及
控制部,所述控制部控制所述支撑单元移动机构,
所述推压构件相对于所述容器固定地配置,
所述控制部以如下方式控制所述支撑单元移动机构:通过利用所述支撑单元移动机构向接近所述推压构件的方向移动所述支撑单元,从而所述被吸附体由所述推压构件推压。
3.根据权利要求1所述的吸附装置,其特征在于,
所述多个推压构件中的至少两个分别配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的多个角部中的相向的两个角部对应的位置。
4.根据权利要求2所述的吸附装置,其特征在于,
所述推压构件配置在与所述被吸附体的所述第二主面具有的角部对应的位置。
5.根据权利要求3或4所述的吸附装置,其特征在于,
所述推压构件配置在与所述被吸附体的全部所述角部对应的位置。
6.根据权利要求1或2所述的吸附装置,其特征在于,
所述被吸附体为矩形。
7.根据权利要求1或2所述的吸附装置,其特征在于,
在从与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向观察时,作为所述支撑单元支撑所述被吸附体的所述第一主面上的区域的支撑区域与作为所述推压构件推压所述被吸附体的所述第二主面上的区域的推压区域不重叠。
8.根据权利要求7所述的吸附装置,其特征在于,
将所述支撑区域垂直投影在所述第二主面上而成的投影区域与所述推压区域以沿着假想线的方式排列,所述假想线构成与所述第一主面的外周相似的图形。
9.根据权利要求1所述的吸附装置,其特征在于,还具有:
支撑单元移动机构,所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在与所述第一主面或所述第二主面垂直的方向上移动;以及
控制部,所述控制部控制所述吸附部件及所述支撑单元移动机构,
所述控制部以如下方式控制所述支撑单元移动机构:在利用所述吸附部件吸附被吸附体之前,使所述支撑单元在接近所述推压构件的方向上移动,并利用所述推压构件推压所述被吸附体。
10.根据权利要求2或9所述的吸附装置,其特征在于,
所述吸附装置还具有使所述吸附部件在所述垂直的方向上移动的吸附部件移动机构,
所述控制部以如下方式控制所述吸附部件移动机构:在利用所述支撑单元移动机构使所述支撑单元在接近所述推压构件的方向上移动的期间中的至少一部分期间中,使所述吸附部件在接近所述推压构件的方向上与所述支撑单元一起移动。
11.根据权利要求1或2所述的吸附装置,其特征在于,
所述吸附部件在与所述推压构件的位置对应的位置形成有孔。
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