[发明专利]一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜及其制备方法

权利要求书

1.一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于所述的聚氨酯薄膜由包括以下组分的原料制备而得：

(1)制备改性纳米木质素：将纳米木质素分散至水相中形成纳米木质素分散液；将5～20份纳米木质素和0.5～40份苯酚(以质量份数计)加入至反应釜中并升温至100～120℃，向上述混合溶液加入稀酸作为催化剂并调至pH＝0.5～3.5，随后继续升温至180～220℃，保持0.5～6h，反应结束后将改性后的纳米木质素经过透析、干燥得到改性纳米木质素；

(2)制备聚氨酯复合薄膜：将异氰酸酯与聚多元醇按一定比例溶于有机溶剂中并升温除去水分，在氮气保护下向混合溶液中逐滴加入一定量的催化剂，反应一定时间后形成聚氨酯预聚物；随后向聚氨酯预聚物中加入步骤(1)制备得到的改性纳米木质素，继续反应一段时间后，通过浇筑、干燥形成聚氨酯/纳米木质素复合薄膜材料。

2.根据权利要求1所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于：所述纳米木质素包括纳米碱木质素、纳米木质素磺酸盐、纳米硫酸盐木质素、有机溶剂型纳米木质素中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于：所述的稀酸为盐酸、硫酸、磷酸和硝酸中的至少一种，浓度为0.01～0.5mol/L。

4.根据权利要求1所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于：所述异氰酸酯与聚多元醇的量以NCO与OH摩尔计，比例为1.01:1～2.0:1。

5.根据权利要求1所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于：所述的异氰酸酯包括六亚甲基二异氰酸酯(HDI)、五亚甲基二异氰酸酯(PDI)、二苯基甲烷二异氰酸酯(MDI)、4,4'-二环己基甲烷二异氰酸酯(HMDI)、甲苯二异氰酸酯(TDI)和异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)中的至少一种；所述的聚多元醇包括聚醚多元醇或聚酯多元醇，其中，所述的聚醚多元醇或聚酯多元醇包括聚乙二醇、聚氧化丙烯二醇、聚醚三醇、聚合物多元醇、聚四氢呋喃二醇、聚己二酸乙二醇酯二醇、聚己二酸乙二醇酯-1,4-丁二醇酯二醇、聚己二酸蓖麻油酯多元醇、聚己内酯多元醇、聚碳酸酯二醇和聚丙烯酸酯多元醇中的一种或多种混合。。

6.根据权利要求1所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于：所述的溶剂包括丙酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、四氢呋喃、二氧六环中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方法，其特征在于：所述的催化剂包括辛酸亚锡、二丁基二月桂酸锡、二(十二烷基硫)二丁基锡、单丁基氧化锡及二丁基氧化锡中的至少一种。

8.根据权利要求1～7任一项所述的一种本征紫外屏蔽聚氨酯木质素复合膜的制备方制备得到的本征紫外屏蔽纳米木质素基聚氨酯介电薄膜。

9.包含权利要求8所述的本征紫外屏蔽纳米木质素基聚氨酯介电薄膜的人体保护服饰、灯具、玻璃贴膜、遮阳用具、涂料或光电器件。

10.权利要求8所述的本征紫外屏蔽纳米木质素基聚氨酯介电薄膜在家居领域、建筑领域、日用品领域、交通领域、家电领域中的应用。