[发明专利]用于半导体清洁的阿基米德刷

权利要求书

1.一种用于清洁衬底的清洁装置，所述清洁装置包括：

心轴；以及

刷子，所述刷子包括吸附性材料并且所述刷子接合至所述心轴，其中所述刷子包括从所述刷子的表面突出的阿基米德螺纹形状，其中所述阿基米德螺纹包括沿着所述阿基米德螺纹的长度的至少两个不同的节距。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中包括所述阿基米德螺纹形状的所述刷子是以下中的一者：

模制刷子，或

所述刷子上的机械加工图样。

3.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述阿基米德螺纹形状是单个连续的阿基米德螺纹形状。

4.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述心轴和所述刷子中的一者或两者是圆柱形形状。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述心轴和所述刷子中的一者或两者是圆锥形形状。

6.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述刷子包括聚醋酸乙烯酯泡沫体、聚氨酯泡沫体和聚合泡沫体中的一者。

7.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述心轴包括：

外表面，

内表面，所述内表面形成中空流体通道，以及

多个小孔，所述多个小孔从所述中空流体通道径向向外延伸至所述外表面。

8.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述刷子的长度与所述心轴的长度基本相等。

9.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述心轴包括第一接合构件，并且所述刷子包括第二接合构件，所述第二接合构件配置为接合至所述第一接合构件以将所述心轴牢固地固持至所述刷子。

10.根据权利要求1所述的清洁装置，其中所述阿基米德螺纹形状从所述刷子的第一端部延伸至与所述第一端部相对的所述刷子的第二端部。

11.一种用于清洁衬底的清洁装置，所述清洁装置包括：

心轴，所述心轴包括：

外表面；

内表面，所述内表面形成中空流体通道；以及

多个小孔，所述多个小孔从所述中空流体通道径向向外延伸至所述外表面；以及

刷子，所述刷子包括吸附性材料并且所述刷子接合至所述心轴，其中所述刷子包括从所述刷子的表面突出的阿基米德螺纹形状，其中所述阿基米德螺纹包括沿着所述阿基米德螺纹的长度的至少两个不同的节距。

12.根据权利要求11所述的清洁装置，其中所述刷子包括聚醋酸乙烯酯泡沫体、聚氨酯泡沫体和聚合泡沫体中的一者。

13.根据权利要求11所述的清洁装置，其中所述刷子的长度与所述心轴的长度基本相等。

14.根据权利要求11所述的清洁装置，其中所述心轴包括第一接合构件，并且所述刷子包括第二接合构件，所述第二接合构件配置为接合至所述第一接合构件以将所述心轴牢固地固持至所述刷子。

15.根据权利要求11所述的清洁装置，其中所述阿基米德螺纹形状从所述刷子的第一端部延伸至与所述第一端部相对的所述刷子的第二端部。

16.一种用于清洁衬底的清洁装置，所述清洁装置包括：

心轴；以及

刷子，所述刷子包括吸附性材料并且所述刷子接合至所述心轴，其中所述刷子包括从所述刷子的表面突出的阿基米德螺纹形状，其中所述阿基米德螺纹形状是单个连续的阿基米德螺纹形状，以及

其中所述阿基米德螺纹包括沿着所述阿基米德螺纹的长度的至少两个不同的节距。

17.根据权利要求16所述的清洁装置，其中所述刷子的长度与所述心轴的长度基本相等。