[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物、蚀刻方法和金属图案的形成方法

说明书

本发明提供一种银薄膜蚀刻液组合物及利用该银薄膜蚀刻液组合物的蚀刻方法和金属图案的形成方法，上述银薄膜蚀刻液组合物的特征在于包含：(A)无机酸、(B)有机酸、(C)无机盐和(D)水，所述(C)无机盐为选自硝酸盐和硫酸盐中的一种。银薄膜蚀刻液组合物用于由银(Ag)或银合金构成的单层膜及由上述单层膜和透明导电膜构成的多层膜的蚀刻，提供不发生残渣和银再吸附问题的效果。

本申请是申请日为2018年5月22日、申请号为201810497139.X、发明名称为《银薄膜蚀刻液组合物、蚀刻方法和金属图案的形成方法》的中国专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及银薄膜蚀刻液组合物、利用其的蚀刻方法和金属图案的形成方法。

背景技术

随着真正步入信息化时代，处理及显示大量的信息的显示器领域发展迅速，针对于此大量的平板显示器得到开发并受到关注。

作为这样的平板显示装置的例子，可以举出液晶显示装置(Liquid crystaldisplay device：LCD)、等离子体显示装置(Plasma Display Panel device：PDP)、场发射显示装置(Field Emission Display device：FED)、电致发光显示装置(Electroluminescence Display device：ELD)、有机发光显示器(Organic LightEmitting Diodes：OLED)等，这样的平板显示装置不仅应用于电视或录像机等家电领域，还以多种多样的用途应用于笔记本之类的电脑和手机等中。由于这些平板显示装置的薄型化、轻量化以及低耗电化等优异的性能，实际情况是其正在快速替代以往使用的布劳恩管(阴极射线管(Cathode Ray Tube：NIT))。

特别是，OLED由于元件本身发光且在低电压下也能够驱动，因此近年来在便携设备等小型显示器市场得到快速应用。另外，OLED的目前状态是从小型显示器跨越到了大型TV的商用化。

另一方面，氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)和氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)之类的导电性金属对于光的透过率相对优异，且具有导电性，因此广泛用于平板显示装置中所使用的滤色器的电极。但是，这些金属由于还具有高电阻，因此阻碍通过改善响应速度的平板显示装置来实现大型化和高分辨率。

此外，对于反射板而言，以往主要将铝(Al)反射板用于制品，但为了通过亮度提高来实现低耗电，目前正在探索将材料变更为反射率更高的金属。为此，想要将与应用在平板显示装置中的金属相比具有更低的电阻率和更高的亮度的银(Ag：电阻率约为1.59μΩ㎝)膜、银合金或包含其的多层膜应用于滤色器的电极、LCD或OLED配线及反射板，实现平板显示装置的大型化和高分辨率及低耗电等，从而需要开发用于该材料的应用的蚀刻液。

然而，银(Ag)对于玻璃等绝缘基板或者由本征非晶硅或掺杂非晶硅等构成的半导体基板等下部基板的粘接性(adhesion)极其不良而不易蒸镀，容易诱发配线的翘起(lifting)或剥落(Peeling)。另外，在将银(Ag)导电层蒸镀于基板的情况下，为了将其图案化，会使用蚀刻液。在使用以往的蚀刻液作为这样的蚀刻液的情况下，银(Ag)会被过度蚀刻或不均匀蚀刻而发生配线的翘起或剥落，从配线方面来看轮廓会发生不良。

另外，用于实现高分辨率的低偏斜(LOW Skew)呈现从工序方面考虑存在困难。

特别是，银(Ag)是容易被还原的金属，只有蚀刻速度快才能无残渣诱发地进行蚀刻，此时，由于蚀刻速度快而上下部间不产生蚀刻速度的差异，蚀刻后难以形成锥角(taperangle)，且不易确保蚀刻图案的直进性，因此在形成配线和图案时存在许多限制。

在金属膜无锥角(taper angle)地直立的情况下，在后续工序中形成绝缘膜或配线时，在银(Ag)和绝缘膜或配线之间可能产生空隙，这样的空隙产生会成为发生电短路等不良的原因。