[发明专利]一种1.5 D腔内超声微探头及成像方法在审
| 申请号: | 202110210533.2 | 申请日: | 2021-02-25 |
| 公开(公告)号: | CN112773407A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
| 发明(设计)人: | 简小华;徐杰 | 申请(专利权)人: | 苏州希声科技有限公司 |
| 主分类号: | A61B8/12 | 分类号: | A61B8/12;A61B8/00 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 方中 |
| 地址: | 215163 江苏省苏州市高新区科技城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 1.5 超声 探头 成像 方法 | ||
1.一种1.5 D腔内超声微探头,其包括声透镜、匹配层、压电层、背衬、柔性电路板、及连接线缆,其中所述的压电层、背衬、柔性电路板形成阵列成像,所述阵列成像具有多组相隔开的阵元,每组所述阵元包括中心阵元N、以及与中心阵元N两端部隔开的阵元N-1和阵元N-2,其中所述阵元N-1和所述阵元N-2之间并联连接,其特征在于:所述中心阵元N通过电容与并联的所述阵元N-1和所述阵元N-2并联连通,且每组所述阵元仅需一根同轴线。
2.根据权利要求1所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:每组所述阵元中各个阵元的宽度相等。
3.根据权利要求1所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:每组所述阵元中的中心阵元N、阵元N-1、阵元N-2的长度比为2:1:1。
4.根据权利要求3所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:所述阵元N-1和阵元N-2分别与所述中心阵元N之间的间隔距离相等。
5.根据权利要求1所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:每相邻两组所述阵元之间形成空白缝隙,且在所述空白缝隙填充高分子聚合物。
6.根据权利要求5所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:所述高分子聚合物为环氧树脂或橡胶。
7.根据权利要求1所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:每组所述阵元通过导电的匹配层或者粘接导线与负极共地连接。
8.根据权利要求1所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:所述的背衬为导电材料制成,且所述背衬位于所述柔性电路板和所述压电层之间。
9.根据权利要求1所述的1.5 D腔内超声微探头,其特征在于:所述的背衬为不导电材料制成,且所述背衬位于所述柔性电路板的底部。
10.一种超声成像方法,其特征在于:所述超声成像方法采用了权利要求1至9中任一项权利要求所述的1.5 D腔内超声微探头,所述的超声成像方法包括如下步骤:
1)、根据测量要求,设定阵元N-1和阵元N-2需要的延时为ΔT,则并联在电路中的电容C的大小可由下式决定:
C=-R×ln((E-V)/E)/ΔT 式(1)
式(1)中,R为探头阵元的阻抗,E为激励的电压,V为电容充放电电压,同时,根据式(1)先确定各个阵元需并联的电容值,完成内窥探头的制作和封装;
2)、依次激励各个探头,然后接收回波信号,进行波束成型和后续处理,其中接收到的回波信号经过电路也有延迟,
T=-R×C×ln(V/U) 式(2)
式(2)中T为具体的延迟时间,R为探头阵元的阻抗,C为电容值,V为电容充放电电压,U为信号强度,同时,在回波处理的过程中,由于探头电路产生的延迟,并结合式(2)的计算结果,对阵元的回波进行时间补偿。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州希声科技有限公司,未经苏州希声科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110210533.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种铝合金门窗及其安装方法
- 下一篇:一种高粘性物料提取分离装置及方法





