[发明专利]一种在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法

权利要求书

1.一种在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，以包含金属化合物和添加剂的钨酸盐体系为熔盐电解质；

其中，所述金属化合物为稀土金属化合物和锆化合物中的一种，所述添加剂为偏磷酸盐和/或氟盐；

所述偏磷酸盐为NaPO₃、KPO₃和Ca(PO₃)₂中的一种或多种，其添加量为10-25mol％；

所述氟盐为NaF、KF和CaF₂中的一种或多种，其添加量为1-5mol％。

2.根据权利要求1所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述钨酸盐体系由钨酸盐、三氧化钨、所述金属化合物和所述添加剂组成，其中，所述钨酸盐与所述三氧化钨的摩尔比为1：0.001-0.5，所述金属化合物在所述钨酸盐体系中的添加量为1-5wt％。

3.根据权利要求2所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述钨酸盐为Na₂WO₄、K₂WO₄和CaWO₄中的一种或多种。

4.根据权利要求3所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述钨酸盐为Na₂WO₄。

5.根据权利要求1-4任一项所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述方法包括在惰性气体保护下，以金属钨或钨基合金为辅助电极，导电镀件为工作电极，加热熔融所述熔盐电解质后保温，进行原位电沉积。

6.根据权利要求5所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述电沉积为恒电流跃阶法原位电沉积；电流密度为40-60mA/cm²。

7.根据权利要求5所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述加热熔融和保温的温度为800-950℃。

8.根据权利要求5所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述钨基合金中钨的含量大于等于98wt％；

和/或，所述导电镀件的表面粗糙度小于Ra 1.8，且电导率大于240S/cm。

9.根据权利要求5所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，所述惰性气体选自氦气、氖气和氩气中的一种。

10.根据权利要求1-4任一项所述的在熔盐中原位电沉积制备钨合金涂层的方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将经机械加工后的金属钨或钨基合金依次置于丙酮、酒精和去离子水中超声清洗，烘干得辅助电极，备用；

S2、将导电镀件处理至表面光滑平整后，依次置于丙酮、酒精和去离子水中超声清洗，烘干得工作电极，备用；

S3、将预先经过真空干燥脱水处理后的熔盐电解质原料按配比混合，在惰性气体保护下升温至800-950℃，保温2-4h熔化均匀；

S4、将辅助电极和工作电极置于熔盐中采用恒电流跃阶法原位电沉积，冷却降温后，取出工作电极并置于碱液中浸泡，清洗后烘干即得。