[发明专利]一种大小连续可调的铜纳米球粒制备方法在审
| 申请号： | 202110197538.6 | 申请日： | 2021-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN113020612A | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 修慧欣;张洋 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | B22F9/14 | 分类号： | B22F9/14;B22F1/00;B82Y15/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 大小 连续 可调 纳米 制备 方法 | ||
1.一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，在室温下与真空室内进行，其特征在于，该方法包括以下步骤：
⑴.将清洗后的基片通过AB胶粘在金属环上装在基底夹具上，放于离子减薄仪真空室中；
⑵.将所述真空室抽真空，所述真空室的真空度达到104Pa以上，再向所述真空室内通入工作气体，使所述真空室内的气压达到工作气压，所述工作气压为0.8Pa；
⑶.待基底夹具开始旋转，调整工作电压、离子枪轰击角度和工作时间，得到粒径大小连续可调的金属纳米球粒，
其中，所述工作电压为0.1KeV-6KeV，所述轰击角度为0-10°，所述工作时间为20-30min。
2.如权利要求1所述的一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，其特征在于：所述基底的材料可以为陶瓷、半导体、玻璃、晶体中的任意一种。
3.如权利要求1所述的一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，其特征在于：所述粘有基片的金属环放置于真空室时，需将金属环面朝上放置。
4.如权利要求1所述的一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，其特征在于：所述的工作气体为氩气。
5.如权利要求1所述的一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，其特征在于：
所述金属纳米球粒纯度在99.99％以上，所述金属包括铜和金。
6.如权利要求1所述的一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，其特征在于：
所述工作电压为5KeV。
7.如权利要求1所述的一种大小连续可调的金属纳米球粒制备方法，其特征在于：
所述轰击角度为6.5°。
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