[发明专利]一种带门的高温硅钼棒加热炉膛结构在审
申请号: | 202110195604.6 | 申请日: | 2021-02-19 |
公开(公告)号: | CN112815713A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 宋立禄;张海林;吴季浩;滕玉朋;刘国霞 | 申请(专利权)人: | 青岛赛瑞达电子装备股份有限公司 |
主分类号: | F27D1/10 | 分类号: | F27D1/10;F27D1/18;F27D7/06;F27D11/10 |
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地址: | 266000 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高温 硅钼棒 加热 炉膛 结构 | ||
本发明属于高温硅钼棒生产技术领域,尤其是一种带门的高温硅钼棒加热炉膛结构,包括主壳体,所述主壳体的内部设置有空腔,且空腔的内壁设置有加热器B,所述加热器B成U型结构,所述空腔位于加热器B上方和下方的内壁均设置有加热器A,所述加热器A呈W型结构,所述加热器A和加热器B的两端均设置有加热器电极,所述加热器A的外壁设置有第一热偶,所述加热器B的外壁设置有第二热偶。本发明有效的实现了低成本高温度的设计,并且既可以在有氧环境使用,也可以在空气中使用,使用中无需密封、通气和真空保护加热器,加热器A与加热器B产品可以实现1700℃以下的加热能力,满足碳化硅的加热需求。
技术领域
本发明涉及高温硅钼棒生产技术领域,尤其涉及一种带门的高温硅钼棒加热炉膛结构。
背景技术
SiC作为第三代半导体材料的典型代表,是高温、高频、抗辐射、大功率应用场合下极为理想的半导体材料。
SIC材料的扩散、氧化、退火等工艺过程其主要条件就是需要高温,高温加热炉膛是核心技术之一,现有的高温加热炉膛一般为第二代半导体设备,当需要加热高温为1400℃-2000℃,这是以往工作温度为800-1200℃的第二代半导体设备的加热器所不能实现的,所以亟需一种带门的高温硅钼棒加热炉膛结构来改变这一现状。
发明内容
基于现有技术中存在的技术问题,本发明提出了一种带门的高温硅钼棒加热炉膛结构。其优点在于有效的实现了低成本高温度的设计,并且既可以在有氧环境使用,也可以在空气中使用,使用中无需密封、通气和真空保护加热器,加热器A与加热器B产品可以实现1700℃以下的加热能力,满足碳化硅的加热需求。
本发明提出的一种带门的高温硅钼棒加热炉膛结构,包括主壳体,所述主壳体的内部设置有空腔,且空腔的内壁设置有加热器B,所述加热器B成U型结构,所述空腔位于加热器B上方和下方的内壁均设置有加热器A,所述加热器A呈W型结构,所述加热器A和加热器B的两端均设置有加热器电极,所述加热器A的外壁设置有第一热偶,所述加热器B的外壁设置有第二热偶。
通过以上技术方案,由于加热器A呈W型结构,加热器B成U型结构,在加热器A和加热器B共同作用下能够起到良好的加热效果,有效的实现了低成本高温度的设计,并且既可以在有氧环境使用,也可以在空气中使用,使用中无需密封、通气和真空保护加热器,加热器A与加热器B产品可以实现1700℃以下的加热能力,满足碳化硅的加热需求;
本发明进一步设置为,所述主壳体的内壁设置有主体保温层,且主体保温层的材质为岩棉。
通过以上技术方案,岩棉材质的主体保温层能够减少热量从主壳体的四周散散发出去,提高了主壳体内部的保温效果。
本发明进一步设置为,所述主壳体的底部外壁开设有炉膛口,且炉膛口的内壁设置有炉管,所述炉管的底端设置有炉门,所述炉管的一端开设有进气孔,所述进气孔的内壁设置有进气管。
通过以上技术方案,炉管能够同轴套入炉膛口内进行使用,进气管能够方便空气进入至炉膛内,能够使得硅钼棒加热得更加的充分。
本发明进一步设置为,所述主壳体的一侧外壁开设有检修口,且检修口的内壁设置有炉门合页,所述主壳体通过炉门合页连接有炉门壳体。
通过以上技术方案,炉门壳体方便炉膛内部加热器A与加热器B的安装和维护。
本发明进一步设置为,所述炉门壳体为中空材质,且炉门壳体的内部设置有炉门保温层。
通过以上技术方案,炉门保温层能够从炉门壳体处对主壳体内进行保温,防止热量从炉门壳体处散发出去的情况发生。
本发明进一步设置为,所述炉门壳体远离炉门合页的一端设置有炉门螺栓,且炉门壳体通过炉门螺栓与主壳体相连接。
通过以上技术方案,通过炉门螺栓能够方便炉门壳体牢牢固定在主壳体上,提高了炉门壳体固定的稳定性。
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