[发明专利]一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉

权利要求书

1.一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，包括设备架体(13)，其特征在于，所述设备架体(13)内后端设有加热炉体(1)，所述加热炉体(1)底部设有旋开炉门(2)，所述加热炉体(1)底端一侧设有升降炉门直线单元(15)，所述升降炉门直线单元(15)安装在设备架体(13)内，所述升降炉门直线单元(15)靠近加热炉体(1)一侧底端连接有升降炉门(6)，所述升降炉门(6)顶面设有晶圆舟(4)；

所述升降炉门直线单元(15)达到最低工作位时，所述旋开炉门(2)处于炉门的关闭位置，用于阻止炉口处温度流失，所述旋开炉门(2)临时封堵加热炉体(1)炉口，用于阻止加热炉体(1)内热能流失；

所述升降炉门直线单元(15)达到上限位时，所述晶圆舟(4)位于加热炉体(1)内，所述升降炉门(6)与加热炉体(1)炉口密封连接。

2.根据权利要求1所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：所述设备架体(13)前表面中部设置有操作面板(14)，设备架体(13)内底端设置有进料理片单元(10)，所述进料理片单元(10)顶部相对定位设置片盒(7)，片盒(7)内存放8″晶片。

3.根据权利要求2所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：所述操作面板(14)可单独做成开门结构，方便操作面板(14)方形安装孔上安装操作控制屏。

4.根据权利要求3所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：所述片盒(7)的后表面设置有片盒传输机械手直线单元(12)，所述片盒传输机械手直线单元(12)由升降移动单元和底部的左右移动单元组合而成，所述片盒传输机械手直线单元(12)远离进料理片单元(10)一侧分别设有上片盒储存库(11)与下片盒储存库(8)，所述下片盒储存库(8)位于上片盒储存库(11)底端。

5.根据权利要求4所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：所述片盒传输机械手直线单元(12)能够在上片盒储存库(11)和下片盒储存库(8)一侧移动。

6.根据权利要求5所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：所述片盒传输机械手直线单元(12)支撑安装有片盒传输机械手(9)；片盒传输机械手(9)活动范围大于180度。

7.根据权利要求6所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：所述下片盒储存库(8)远离片盒传输机械手直线单元(12)一侧设有插片机械手直线单元(16)；插片机械手直线单元(16)位于加热炉体(1)一侧底端，所述插片机械手直线单元(16)支撑安装有插片机械手(5)，所述插片机械手(5)活动范围大于180度。

8.根据权利要求1所述的一种半导体集成电路用立式扩散氧化炉，其特征在于：设备架体(13)后表面一侧设有电控箱体(3)，所述电控箱体(3)与升降炉门直线单元(15)相对设置，用于安装本设备的电控器件。