[发明专利]抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案的制造方法以及镀敷造型物的制造方法在审
申请号: | 202110189234.5 | 申请日: | 2021-02-19 |
公开(公告)号: | CN113296357A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 杉原昌子;西村崇;中西润次 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/16;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗蚀剂 组合 图案 制造 方法 以及 造型 | ||
1.一种抗蚀剂组合物,其含有:
具有醌二叠氮基磺酰基的化合物(I)、包含具有对酸不稳定的基团的结构单元的树脂(A1)、碱可溶性树脂(A2)及酸产生剂(B)。
2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物,其中,
具有醌二叠氮基磺酰基的化合物(I)为具有式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团的化合物;
式(a)及式(b)中,*表示键合端;
式(c)中,*表示键合端。
3.根据权利要求2所述的抗蚀剂组合物,其中,
具有醌二叠氮基磺酰基的化合物(I)为选自式(II)所示的化合物、式(III)所示的化合物、式(IV)所示的化合物及式(V)所示的化合物中的至少1种;
式(II)中,
R11~R14各自独立地表示氢原子、羟基、碳原子数1~18的烃基、式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;该碳原子数1~18的烃基中含有的亚甲基任选置换为氧原子、羰基或-NRd1-;
Rd1表示氢原子或碳原子数1~6的烷基;
R15~R30各自独立地表示氢原子、羟基、式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;
R11~R30中的至少1个为式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;
式(III)中,
R31~R39各自独立地表示氢原子、羟基、碳原子数1~6的烷基、式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;R31~R39中的至少1个为式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;
P1~P5各自独立地表示氢原子、碳原子数1~18的烃基,该碳原子数1~18的烃基中含有的亚甲基任选置换为氧原子、羰基或-NRd2-,P1及P2任选相互键合并与它们所键合的2个碳原子一起形成环;P4及P5任选相互键合并与它们所键合的碳原子一起形成环;
Rd2表示氢原子或碳原子数1~6的烷基;
式(IV)中,
R40~R53各自独立地表示氢原子、羟基、碳原子数1~6的烷基、式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;R40~R53中的至少1个为式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;
na表示1~5的任选的整数;在na为2以上的任选的整数的情况下,多个R49~R52任选彼此相同或不同;
式(V)中,
Rf1、Rf2及Rg1~Rg8各自独立地表示氢原子、羟基、碳原子数1~6的烷基、式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;Rf1、Rf2及Rg1~Rg8中的至少1个为式(a)所示的基团、式(b)所示的基团或式(c)所示的基团;
P6表示1价的碳原子数6~12的芳香族烃基或2价的碳原子数6~12的芳香族烃基;该芳香族烃基任选由选自羟基及碳原子数1~6的烷基中的至少1种取代;
P7表示氢原子、任选具有取代基的碳原子数1~18的烃基,该碳原子数1~18的烃基中含有的亚甲基任选置换为氧原子、羰基或-NRd3-;P6及P7任选相互键合而形成环;
nv表示1或2;
Rd3表示氢原子或碳原子数1~6的烷基。
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