[发明专利]光刻系统及其曝光补偿方法

权利要求书

1.一种光刻系统的曝光补偿方法，其特征在于包括以下步骤：

获取硅片实际标记位置；

根据所述硅片实际标记位置计算出硅片偏差；

将所述硅片划分成若干栅格，并根据所述硅片偏差计算出每一栅格中硅片实际图形位置相对硅片理论图形位置的偏移量；

工件台机构沿扫描轨迹运动并根据所述偏移量对经过扫描轨迹的每一栅格的曝光位置进行补偿，以使所述硅片实际标记位置与硅片理论标记位置一致。

2.如权利要求1所述的一种光刻系统的曝光补偿方法，其特征在于：所述扫描轨迹包括扫描起点、扫描终点以及设置于所述扫描起点和所述扫描终点之间的至少一扫描停止位置。

3.如权利要求2所述的一种光刻系统的曝光补偿方法，其特征在于：若所述工件台沿扫描轨迹到达扫描停止位置时未实现对硅片全部曝光，所述工件台继续沿扫描轨迹运动，直至所述硅片需曝光的区域完成全部曝光。

4.如权利要求1所述的一种光刻系统的曝光补偿方法，其特征在于：在获取硅片实际标记位置之前对所述硅片进行调焦和调平。

5.利用权利要求1～4曝光补偿方法进行曝光补偿的光刻系统，其特征在于：所述光刻系统包括光源、照明机构、工件台机构、掩模台机构、投影物镜、对准机构，其中：

所述光源用于发出曝光光束；

所述照明机构靠近所述光源，以用于接收所述曝光光束并实现曝光照明；

所述工件台机构具有第一运动机构及与所述第一运动机构连接的第二运动机构，用于安装硅片的承载平台设置于所述第二运动机构，所述第二运动机构可相对于所述第一运动机构作平移和旋转运动，以实现所述第二运动机构相对于所述第一运动机构位置可调；

所述掩模台机构用于支撑及吸附具有掩模图形的掩模版，所述掩模台机构与所述第一运动机构连接，以用于实现所述掩模台机构被所述第一运动机构驱动一起运动；所述投影物镜设置于所述掩模台机构与所述第二运动机构之间，以用于所述掩模图形投影至硅片；

所述对准机构与所述投影物镜连接，以用于测量掩模图形标记以及硅片标记，以建立硅片与掩模图形之间的坐标关系；

所述光源、照明机构、投影物镜、对准机构在光刻系统曝光时处于相对静止，所述掩模台机构与所述第一运动机构一起在第一运动机构的驱动下作扫描运动，所述第二运动机构在随所述第一运动机构执行扫描运动的同时调整与所述第一运动机构的相对位置，以实时补偿硅片实际图形位置与硅片理论图形位置的偏差。

6.如权利要求5所述光刻系统，其特征在于：所述掩模台机构相对于所述第一运动机构固定或所述掩模台机构相对于所述第一运动机构可作轴向位移。

7.如权利要求6所述的光刻系统，其特征在于：所述掩模台机构相对于所述第一运动机构可作轴向位移时，所述掩模台机构包含第一轴向运动机构及第二轴向运动机构，所述第二轴向运动机构的固定端与第一轴向运动机构的活动端连接，所述掩模图形设置于所述第二轴向运动机构的活动端，以实现带有掩模图形的掩模版位置可调。

8.如权利要求6所述光刻系统，其特征在于：所述掩模台机构还包括第一垂向运动模组，所述第一垂向运动模组的运动端与所述第一轴向运动机构的固定端连接。

9.如权利要求5所述的光刻系统，其特征在于：所述第一运动机构包括一对第三轴向运动机构以及第四轴向运动机构，每个所述第三轴向运动机构的活动端共同与所述第四轴向运动机构的固定端连接，所述第四轴向运动机构的活动端连接所述第二运动机构。

10.如权利要求5所述的光刻系统，其特征在于：所述第二运动机构包括第五轴向运动机构以及第六轴向运动机构，所述第五轴向运动机构具有活动端与所述第六轴向运动机构的固定端连接，所述第六轴向运动机构具有活动端可相对于所述第五轴向运动机构移动。