[发明专利]磁场增强组件及磁场增强器件在审

专利信息
申请号: 202110183924.X 申请日: 2021-02-10
公开(公告)号: CN114910844A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 赵乾;池中海;郑卓肇;孟永钢;易懿;王亚魁;周济 申请(专利权)人: 清华大学;北京清华长庚医院
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34;G01R33/38
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 魏朋
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁场 增强 组件 器件
【权利要求书】:

1.一种磁场增强组件,其特征在于,包括:

第一电介质层(100),具有相对的第一端(103)和第二端(104),并包括相对的第一表面(101)和第二表面(102);

第一电极层(110),设置于所述第一表面(101),并沿所述第一端(103)向所述第二端(104)延伸,所述第一电极层(110)包括第一子电极层(111)、第二子电极层(112)和一个第一连接层(190),所述第一子电极层(111)和所述第二子电极层(112)宽度相同并相对间隔设置,所述第一连接层(190)的一端与所述第一子电极层(111)连接,所述第一连接层(190)的另一端与所述第二子电极层(112)连接,所述第一连接层(190)的宽度小于所述第一子电极层(111)的宽度;

第二电极层(120)和第三电极层(130),相对间隔设置于所述第二表面(102),所述第二电极层(120)在所述第一电介质层(100)的正投影与所述第一子电极层(111)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重叠,所述第二电极层(120)、所述第一电介质层(100)和所述第一子电极层(111)构成第二结构电容(302),所述第三电极层(130)在所述第一电介质层(100)的正投影与所述第二子电极层(112)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重叠,所述第三电极层(130)、所述第一电介质层(100)和所述第二子电极层(112)构成第三结构电容(303)。

2.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的宽度是所述第一子电极层(111)的宽度的1/5至1/2。

3.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的延伸方向与第一方向的夹角为锐角或钝角,所述第一方向由所述第一端(103)指向所述第二端(104)。

4.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的侧壁与所述第一子电极层(111)的侧壁的相交处设置为弧形倒角。

5.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一电极层(110)还包括第二连接层(191),所述第二连接层(191)设置于所述第一表面(101),所述第二连接层(191)的宽度小于所述第一子电极层(111)的宽度,所述第二连接层(191)与所述第一连接层(190)平行间隔设置,且所述第一连接层(190)与所述第二连接层(191)并联连接于所述第一子电极层(111)和所述第二子电极层(112)之间。

6.如权利要求5所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的延伸方向与所述第二连接层(191)的延伸方向的夹角为锐角或钝角。

7.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一电极层(110)还包括第二连接层(191),所述第二连接层(191)设置于所述第一表面(101),所述第二连接层(191)的宽度小于所述第一子电极层(111)的宽度,所述第一子电极层(111)、所述第一连接层(190)、所述第二连接层(191)和所述第二子电极层(112)沿所述第一电介质层(100)延伸的方向顺次排布,所述第二连接层(191)与所述第二子电极层(112)连接;

所述磁场增强组件(10)还包括第二谐振调节电路(410),所述第二谐振调节电路(410)的一端与所述第一连接层(190)连接,所述第二谐振调节电路(410)的另一端与所述第二连接层(191)连接。

8.如权利要求7所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第二谐振调节电路(410)包括电容,所述电容的一端与所述第一连接层(190)连接,所述电容的另一端与所述第二连接层(191)连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;北京清华长庚医院,未经清华大学;北京清华长庚医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110183924.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top