[发明专利]磁场增强组件及磁场增强器件在审
申请号: | 202110183924.X | 申请日: | 2021-02-10 |
公开(公告)号: | CN114910844A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
发明(设计)人: | 赵乾;池中海;郑卓肇;孟永钢;易懿;王亚魁;周济 | 申请(专利权)人: | 清华大学;北京清华长庚医院 |
主分类号: | G01R33/34 | 分类号: | G01R33/34;G01R33/38 |
代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 魏朋 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁场 增强 组件 器件 | ||
1.一种磁场增强组件,其特征在于,包括:
第一电介质层(100),具有相对的第一端(103)和第二端(104),并包括相对的第一表面(101)和第二表面(102);
第一电极层(110),设置于所述第一表面(101),并沿所述第一端(103)向所述第二端(104)延伸,所述第一电极层(110)包括第一子电极层(111)、第二子电极层(112)和一个第一连接层(190),所述第一子电极层(111)和所述第二子电极层(112)宽度相同并相对间隔设置,所述第一连接层(190)的一端与所述第一子电极层(111)连接,所述第一连接层(190)的另一端与所述第二子电极层(112)连接,所述第一连接层(190)的宽度小于所述第一子电极层(111)的宽度;
第二电极层(120)和第三电极层(130),相对间隔设置于所述第二表面(102),所述第二电极层(120)在所述第一电介质层(100)的正投影与所述第一子电极层(111)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重叠,所述第二电极层(120)、所述第一电介质层(100)和所述第一子电极层(111)构成第二结构电容(302),所述第三电极层(130)在所述第一电介质层(100)的正投影与所述第二子电极层(112)在所述第一电介质层(100)的正投影部分重叠,所述第三电极层(130)、所述第一电介质层(100)和所述第二子电极层(112)构成第三结构电容(303)。
2.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的宽度是所述第一子电极层(111)的宽度的1/5至1/2。
3.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的延伸方向与第一方向的夹角为锐角或钝角,所述第一方向由所述第一端(103)指向所述第二端(104)。
4.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的侧壁与所述第一子电极层(111)的侧壁的相交处设置为弧形倒角。
5.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一电极层(110)还包括第二连接层(191),所述第二连接层(191)设置于所述第一表面(101),所述第二连接层(191)的宽度小于所述第一子电极层(111)的宽度,所述第二连接层(191)与所述第一连接层(190)平行间隔设置,且所述第一连接层(190)与所述第二连接层(191)并联连接于所述第一子电极层(111)和所述第二子电极层(112)之间。
6.如权利要求5所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一连接层(190)的延伸方向与所述第二连接层(191)的延伸方向的夹角为锐角或钝角。
7.如权利要求1所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第一电极层(110)还包括第二连接层(191),所述第二连接层(191)设置于所述第一表面(101),所述第二连接层(191)的宽度小于所述第一子电极层(111)的宽度,所述第一子电极层(111)、所述第一连接层(190)、所述第二连接层(191)和所述第二子电极层(112)沿所述第一电介质层(100)延伸的方向顺次排布,所述第二连接层(191)与所述第二子电极层(112)连接;
所述磁场增强组件(10)还包括第二谐振调节电路(410),所述第二谐振调节电路(410)的一端与所述第一连接层(190)连接,所述第二谐振调节电路(410)的另一端与所述第二连接层(191)连接。
8.如权利要求7所述的磁场增强组件,其特征在于,所述第二谐振调节电路(410)包括电容,所述电容的一端与所述第一连接层(190)连接,所述电容的另一端与所述第二连接层(191)连接。
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