[发明专利]一种基于相位调控超构表面的双核MRI的图像增强超构表面器件在审
| 申请号: | 202110183916.5 | 申请日: | 2021-02-10 |
| 公开(公告)号: | CN114910839A | 公开(公告)日: | 2022-08-16 |
| 发明(设计)人: | 赵乾;池中海;孟永钢;郑卓肇;易懿;王亚魁;周济 | 申请(专利权)人: | 清华大学;北京清华长庚医院 |
| 主分类号: | G01R33/34 | 分类号: | G01R33/34;G01R33/38;A61B5/055 |
| 代理公司: | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人: | 魏朋 |
| 地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 相位 调控 表面 mri 图像 增强 器件 | ||
1.一种双核磁场增强装置,其特征在于,包括:
第一筒形磁场增强器(810)包括:
第一筒形支架(811),具有第一外表面(801)与第一内表面(802),所述第一外表面(801)环绕所述第一内表面(802),并且与所述第一内表面(802)间隔相对设置,所述第一内表面(802)包围形成第一容纳空间(819);
多个第一磁场增强组件(812),所述第一磁场增强组件(812)的延伸方向与所述第一筒形支架(811)的第一中心轴线的延伸方向相同,并环绕所述第一中心轴线间隔设置于所述第一外表面(801);以及
第一环形导电片(861)和第二环形导电片(862),分别设置于所述第一筒形支架(811)相对的两端,并环绕所述第一中心轴线设置,所述第一环形导电片(861)的两端的连接处具有第一相位调控缺口(871),所述第二环形导电片(862)的两端的连接处具有第二相位调控缺口(872);
每个所述第一磁场增强组件(812)的两端分别与所述第一环形导电片(861)和所述第二环形导电片(862)连接,用于增强检测部位的氢质子核的核磁信号;
第二筒形磁场增强器(820),设置于所述第一容纳空间(819)内,所述第二筒形磁场增强器(820)包围形成第二容纳空间(829),用于容纳检测部位,所述第二筒形磁场增强器(820)用于增强所述检测部位的非氢质子核的核磁信号。
2.如权利要求1所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第一相位调控缺口(871)与所述第二相位调控缺口(872)相对设置,且所述第一相位调控缺口(871)与所述第二相位调控缺口(872)的连线与所述第一中心轴线平行。
3.如权利要求2所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述多个第一磁场增强组件(812)设置于所述第一相位调控缺口(871)和所述第二相位调控缺口(872)的连线的两侧。
4.如权利要求1所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第一相位调控缺口(871)与所述第二相位调控缺口(872)的弧长,等于相邻两个所述第一磁场增强组件(812)之间的间隔距离。
5.如权利要求1所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第二筒形磁场增强器(820)包括:
第二筒形支架(821),设置于所述第一容纳空间(819)内,所述第二筒形支架(821)具有第二外表面(803),与所述第一内表面(802)间隔相对设置;
多个第二磁场增强组件(822),间隔设置于所述第二外表面(803),所述第二磁场增强组件(822)的延伸方向与所述第二筒形支架(821)的第二中心轴线的延伸方向相同;
第三环形导电片(866)和第四环形导电片(867),分别设置于所述第二筒形支架(821)相对的两端,并环绕所述第二筒形支架(821)的中心轴线设置,所述第三环形导电片(866)的两端的连接处具有第三相位调控缺口(873),所述第四环形导电片(867)的两端的连接处具有第四相位调控缺口(874);
每个所述第二磁场增强组件(822)的两端分别与所述第三环形导电片(866)和所述第四环形导电片(867)连接,用于增强所述检测部位的非氢质子核的核磁信号。
6.如权利要求5所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第三相位调控缺口(873)与所述第四相位调控缺口(874)相对设置,且所述第三相位调控缺口(873)与所述第四相位调控缺口(874)的连线与所述第二中心轴线平行。
7.如权利要求6所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述多个第二磁场增强组件(822)设置于所述第三相位调控缺口(873)与所述第四相位调控缺口(874)的连线的两侧。
8.如权利要求6所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第三相位调控缺口(873)与所述第一相位调控缺口(871)正交设置,所述第四相位调控缺口(874)与所述第二相位调控缺口(872)正交设置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;北京清华长庚医院,未经清华大学;北京清华长庚医院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110183916.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:磁场增强组件以及磁场增强器件
- 下一篇:磁场增强组件及磁场增强器件





