[发明专利]一种基于相位调控超构表面的双核MRI的图像增强超构表面器件在审

专利信息
申请号: 202110183916.5 申请日: 2021-02-10
公开(公告)号: CN114910839A 公开(公告)日: 2022-08-16
发明(设计)人: 赵乾;池中海;孟永钢;郑卓肇;易懿;王亚魁;周济 申请(专利权)人: 清华大学;北京清华长庚医院
主分类号: G01R33/34 分类号: G01R33/34;G01R33/38;A61B5/055
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 魏朋
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 相位 调控 表面 mri 图像 增强 器件
【权利要求书】:

1.一种双核磁场增强装置,其特征在于,包括:

第一筒形磁场增强器(810)包括:

第一筒形支架(811),具有第一外表面(801)与第一内表面(802),所述第一外表面(801)环绕所述第一内表面(802),并且与所述第一内表面(802)间隔相对设置,所述第一内表面(802)包围形成第一容纳空间(819);

多个第一磁场增强组件(812),所述第一磁场增强组件(812)的延伸方向与所述第一筒形支架(811)的第一中心轴线的延伸方向相同,并环绕所述第一中心轴线间隔设置于所述第一外表面(801);以及

第一环形导电片(861)和第二环形导电片(862),分别设置于所述第一筒形支架(811)相对的两端,并环绕所述第一中心轴线设置,所述第一环形导电片(861)的两端的连接处具有第一相位调控缺口(871),所述第二环形导电片(862)的两端的连接处具有第二相位调控缺口(872);

每个所述第一磁场增强组件(812)的两端分别与所述第一环形导电片(861)和所述第二环形导电片(862)连接,用于增强检测部位的氢质子核的核磁信号;

第二筒形磁场增强器(820),设置于所述第一容纳空间(819)内,所述第二筒形磁场增强器(820)包围形成第二容纳空间(829),用于容纳检测部位,所述第二筒形磁场增强器(820)用于增强所述检测部位的非氢质子核的核磁信号。

2.如权利要求1所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第一相位调控缺口(871)与所述第二相位调控缺口(872)相对设置,且所述第一相位调控缺口(871)与所述第二相位调控缺口(872)的连线与所述第一中心轴线平行。

3.如权利要求2所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述多个第一磁场增强组件(812)设置于所述第一相位调控缺口(871)和所述第二相位调控缺口(872)的连线的两侧。

4.如权利要求1所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第一相位调控缺口(871)与所述第二相位调控缺口(872)的弧长,等于相邻两个所述第一磁场增强组件(812)之间的间隔距离。

5.如权利要求1所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第二筒形磁场增强器(820)包括:

第二筒形支架(821),设置于所述第一容纳空间(819)内,所述第二筒形支架(821)具有第二外表面(803),与所述第一内表面(802)间隔相对设置;

多个第二磁场增强组件(822),间隔设置于所述第二外表面(803),所述第二磁场增强组件(822)的延伸方向与所述第二筒形支架(821)的第二中心轴线的延伸方向相同;

第三环形导电片(866)和第四环形导电片(867),分别设置于所述第二筒形支架(821)相对的两端,并环绕所述第二筒形支架(821)的中心轴线设置,所述第三环形导电片(866)的两端的连接处具有第三相位调控缺口(873),所述第四环形导电片(867)的两端的连接处具有第四相位调控缺口(874);

每个所述第二磁场增强组件(822)的两端分别与所述第三环形导电片(866)和所述第四环形导电片(867)连接,用于增强所述检测部位的非氢质子核的核磁信号。

6.如权利要求5所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第三相位调控缺口(873)与所述第四相位调控缺口(874)相对设置,且所述第三相位调控缺口(873)与所述第四相位调控缺口(874)的连线与所述第二中心轴线平行。

7.如权利要求6所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述多个第二磁场增强组件(822)设置于所述第三相位调控缺口(873)与所述第四相位调控缺口(874)的连线的两侧。

8.如权利要求6所述的双核磁场增强装置,其特征在于,所述第三相位调控缺口(873)与所述第一相位调控缺口(871)正交设置,所述第四相位调控缺口(874)与所述第二相位调控缺口(872)正交设置。

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