[发明专利]掩膜版及掩膜版的精度检测方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

通用掩膜版，包括具有通用蒸镀开口的框式主体，所述框式主体具有沿各所述通用蒸镀开口周向延伸的内边缘区域，所述内边缘区域具有异形区段；

异形段定位组件，包括沿所述异形区段分布的多个点状定位件，各所述点状定位件到相邻的所述通用蒸镀开口边缘的最小距离相等。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，各所述点状定位件到相邻的所述通用蒸镀开口的最小距离为100μm～150μm。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，相邻各所述点状定位件之间的最小距离均相等；

优选的，所述相邻各所述点状定位件之间的最小距离为30μm～50μm。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，各所述点状定位件在所述框式主体上的正投影轮廓边缘上两点之间的最大距离为50μm～100μm。

5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，各所述点状定位件在所述框式主体上的正投影为矩形、十字形、椭圆形、圆形中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述框式主体具有相对的第一表面和第二表面，所述点状定位件设于所述第一表面和所述第二表面中的至少一者。

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括边框部，所述边框具有中心开口，所述框式主体固定于所述中心开口内，所述边框上设有基准对位孔。

8.一种掩膜版的精度检测方法，其特征在于，包括：

提供掩膜版，所述掩膜版为权利要求1至7任一项所述的掩膜版；

获取所述掩膜版的各所述点状定位件的实际位置参数；

比较已知的所述点状定位件的预设位置参数和所述实际位置参数以获取所述点状定位件的位置精度参数。

9.根据权利要求8所述的掩膜版的精度检测方法，其特征在于，在所述获取所述掩膜版的各所述点状定位件的实际位置参数的步骤中：

采用图像获取部获取所述掩膜版的各所述点状定位件的图像，根据所述图像获取所述点状定位件的实际位置参数。

10.根据权利要求9所述的掩膜版的精度检测方法，其特征在于，在所述提供掩膜版和所述获取所述掩膜版的各所述点状定位件的实际位置参数的步骤之间，还包括：

获取边框上的基准对位孔的位置参数以确定基准坐标系，其中，所述边框具有中心开口，所述框式主体固定于所述中心开口内，所述边框上设有所述基准对位孔；

采用图像获取部获取所述掩膜版的各所述点状定位件的图像，根据所述图像获取所述点状定位件在所述基准坐标系上的实际位置参数。