[发明专利]聚焦镜组调节平台的构建方法及聚焦镜组调节平台有效
申请号: | 202110181422.3 | 申请日: | 2021-02-09 |
公开(公告)号: | CN112965179B | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 赵卫东;张艳春;雷谢福 | 申请(专利权)人: | 度亘激光技术(苏州)有限公司;苏州度亘光电器件有限公司 |
主分类号: | G02B6/42 | 分类号: | G02B6/42 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 张鹏 |
地址: | 215000 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚焦 调节 平台 构建 方法 | ||
本发明提供了一种聚焦镜组调节平台的构建方法及聚焦镜组调节平台,涉及光学技术领域,通过构建沿第一方向的光路、光束检测机构和固定平台,同时,利用检验模块确定镜片组件标准位置和潜望镜标准位置,最后确定光束检测机构上的光斑标准位置,利用光斑标准位置,在待组装的耦合模块内通过调节聚焦镜组使光束照射在光束检测机构上的位置与光斑标准位置一致时,固定聚焦镜组。与现有技术相比,避免了现有技术的正向耦合方法中聚焦镜组位置存在偏差与倾斜角度过大以及调节不当引起的光纤烧毁的问题。
技术领域
本发明涉及光学技术领域,尤其是涉及一种聚焦镜组调节平台的构建方法及聚焦镜组调节平台。
背景技术
光纤耦合模块内设置有发光组件和聚焦镜组,发光组件产生的光经过聚焦镜组(即快轴聚焦镜与慢轴聚焦镜)准直后经光纤输出,现有技术中,聚焦镜组在光纤耦合模块内的固定方法是通过调节聚焦镜组的位置与倾斜角度,由发光组件产生的光经聚焦镜组准直后正向输出,通过功率计观察耦合光纤输出端功率的变化情况,在功率达到最大值时再固定聚焦镜组。
上述的固定方法具有以下缺点:检测功率的功率计本身存在功率波动,功率波动会影响聚焦镜组最终的固定位置;聚焦镜组存在一定区间的倾斜角度和一定区间位置偏差,输出功率都能达到“最大值”,无法确认聚焦镜组光路最佳位置,倾斜角度和位置偏差会引起输出光束模式变差,NA过大;当多路发光组件耦合时,发光组件的功率较大,聚焦镜组调节不当,易发生光纤涂覆层发热烧毁。
发明内容
本发明的目的在于提供一种聚焦镜组调节平台及其构建方法,以缓解了现有技术中的聚焦镜组固定方法无法确认聚焦镜组的最佳位置,且调节不当时,易发生光纤涂覆层发热烧毁的技术问题。
本发明提供的聚焦镜组调节平台的构建方法,包括如下步骤:
S1:利用光源构建沿第一方向的光路;
S2:在光路的延伸方向上设置可沿第一方向在第一位置和第二位置之间移动的光束检测机构;
S3:在所述光源与所述光束检测机构之间设置具有高度调节功能的固定平台,所述固定平台上设有安装工位,将检验模块固定在该安装工位,所述检验模块朝向所述光源的侧面设有与待组装的耦合模块的光纤出口位置相同的通孔,所述检验模块的另一侧为开口,在所述检验模块内设置校准组件,所述校准组件在所述检验模块内的相对位置与所述校准组件在所述待组装的耦合模块内的位置相同,利用所述通孔和所述校准组件将所述固定平台调节至固定高度;
S4:将所述光源更换为与待组装的耦合模块波长相同的半导体发光器件,将所述半导体发光器件的光纤出口通过连接组件固定在所述通孔处;
将所述校准组件取下,将聚焦镜组移动至所述检验模块内,并调节所述聚焦镜组的位置,当所述半导体发光器件发出并经所述聚焦镜组准直的光束与步骤S3中所述光源照射在所述光束检测机构上光斑位置相同时,记录所述聚焦镜组在所述检验模块内的相对位置,并定义为镜片组件标准位置;
S5:在所述聚焦镜组远离所述半导体发光器件的一侧设置潜望镜组件,通过调节所述潜望镜组件的位置,当所述光束检测机构在第一位置和第二位置之间移动过程中,所述半导体发光器件发出并经所述聚焦镜组准直和所述潜望镜组件调整的光束照射在所述光束检测机构的光斑位置相较于步骤S4的光斑位置仅在竖直方向上平移固定值,记录光束在所述光束检测机构上位置,并定义该位置为光斑标准位置,同时记录所述潜望镜组件的位置数据,并将所述潜望镜组件在所述检验模块内的相对位置定义为潜望镜标准位置。
进一步的,步骤S1包括:
S11:启动光源;
S12:在所述光源的传播路径上设置第一光阑机构和第二光阑机构,调节所述第一光阑机构和所述第二光阑机构的位置,使所述光源发出的光线依次通过所述第一光阑机构上的第一通孔和所述第二光阑机构上的第二通孔;
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