[发明专利]OLED显示面板及其制备方法

说明书

本发明提供一种OLED显示面板及其制备方法。所述OLED显示面板包括位于衬底基板之上的薄膜晶体管层；位于所述薄膜晶体管层之上的平坦化层；位于所述平坦化层之上的反射导电层；位于所述反射导电层之上的阳极层；位于所述平坦化层和所述阳极层之上的像素定义层；位于所述阳极层之上且对应于像素区设置的有机发光层；位于所述像素定义层和所述有机发光层之上的公共电极层；其中，所述像素电极层还包括位于所述反射导电层和所述阳极层之间的微腔调整层。本发明通过在阳极层下方、反射导电层上方设置一定厚度的微腔调整层来代替一部分微腔腔长，从而可减少打印膜层的厚度，可避免因打印膜厚过厚而出现的墨水铺展均匀性差的问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种OLED显示面板及其制备方法。

背景技术

OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板在色域、对比度、响应速度等方面的品质均优于液晶显示面板，使得其应用范围越来越广泛。由于喷墨打印技术具有极高的材料利用率，OLED显示面板一般采用喷墨打印技术制备，但是由于喷墨打印技术的不成熟和材料限制，使得经喷墨打印后的OLED显示面板存在很多问题。具体的，OLED显示面板中的HIL(空穴注入层)、HTL(空穴传输层)和EML(发光材料层)均采用喷墨打印技术进行制备，由于上述膜层的厚度较薄，使得OLED显示面板发出的光会在反射导电层和公共电极层之间发生反射、折射和干涉等现象(即微腔效应)，导致OLED显示面板的出光效率和色域均降低。

现有技术一般通过调整打印膜层的厚度来改变微腔腔长，从而改变出光强度。经实验发现，当HIL、HTL和EML的整体厚度在100纳米左右时，OLED显示面板出现第一节点的出光强度峰值；当HIL、HTL和EML的整体厚度在200纳米至300纳米时，OLED显示面板出现第二节点的出光强度峰值。但是对应于第一节点的小厚度(打印膜层厚度较薄)的OLED显示面板极易由于阳极层表面平整度和洁净度不佳而出现阳极层和公共电极层之间短路等异常，极大地影响了OLED显示面板的显示品质；而对应于第二节点的相对大厚度(打印膜层厚度较厚)的OLED显示面板由于打印的墨水厚度太厚，会出现墨水铺展均匀性差的情况，导致显示不均。故，有必要改善这一缺陷。

发明内容

本发明实施例提供一种OLED显示面板，用于解决现有技术的OLED显示面板采用喷墨打印技术打印膜层，若打印膜层的厚度满足第一节点的出光强度峰值，容易导致阳极层和公共电极层之间短路；若打印膜层的厚度满足第二节点的出光强度峰值，会出现墨水铺展均匀性差，造成显示不均的技术问题。

本发明实施例提供一种OLED显示面板，包括衬底基板、薄膜晶体管层、平坦化层、像素电极层、像素定义层、有机发光层以及公共电极层；所述薄膜晶体管层位于所述衬底基板之上；所述平坦化层位于所述薄膜晶体管层之上；所述像素电极层位于所述平坦化层之上，包括反射导电层、位于所述反射导电层之上的阳极层；所述像素定义层位于所述平坦化层和所述阳极层之上，用于定义像素区；所述有机发光层位于所述阳极层之上，且对应于所述像素区设置；所述公共电极层位于所述像素定义层和所述有机发光层之上；其中，所述像素电极层还包括位于所述反射导电层和所述阳极层之间的微腔调整层。

在本发明实施例提供的OLED显示面板中，所述微腔调整层的材料为氮化硅。

在本发明实施例提供的OLED显示面板中，所述有机发光层包括设于所述阳极层之上的空穴注入层、设于所述空穴注入层之上的空穴传输层、设于所述空穴传输层之上的发光材料层、设于所述发光材料层之上的电子传输层、设于所述电子传输层之上的电子注入层。

在本发明实施例提供的OLED显示面板中，所述发光材料层、所述空穴传输层、所述空穴注入层、所述阳极层以及所述微腔调整层的厚度之和为200纳米至300纳米之间的任一值。

在本发明实施例提供的OLED显示面板中，所述发光材料层包括红色发光材料层、绿色发光材料层以及蓝色发光材料层。