[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202110152553.9 申请日: 2021-02-03
公开(公告)号: CN112946946A 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 彭钊 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种彩膜基板,包括一衬底基板以及依次排列设置于所述衬底基板上的多个像素单元,其特征在于:每一像素单元包括四种不同的子像素单元;所述彩膜基板还包括设置于所述子像素单元之间的遮光矩阵;

其中,在所述的四种不同的子像素单元中具有三种子像素单元,分别采用不同的量子点发光材料,并且所述的三种子像素单元在蓝色背光下发出不同颜色的光。

2.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于:所述的四种不同的子像素单元包括第一子像素单元、第二子像素单元、第三子像素单元以及第四子像素单元;

所述第一子像素单元在所述蓝色背光下发出蓝色光,所述第二子像素单元在所述蓝色背光下发出红色光,所述第三子像素单元在所述蓝色背光下发出绿色光,所述第四子像素单元在所述蓝色背光下发出白色光。

3.如权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于:所述的四种不同的子像素单元的材料包括树脂材料,所述树脂材料为酚醛树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇、聚酰亚胺、聚苯硫醚、芳族聚酰胺、聚丙烯、聚乙烯、聚乳酸、聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、脂环式丙烯酸树脂或环烯烃树脂中的至少一种;其中,所述第二子像素单元、所述第三子像素单元以及所述第四子像素单元分别采用不同的量子点发光材料。

4.如权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于:所述第一子像素单元为透明材料;

所述第二子像素单元为红色量子点发光材料,所述红色量子点发光材料包括:Ag2S量子点、PbS量子点以及CuInS2量子点;

所述第三子像素单元为绿色量子点发光材料,所述绿色量子点发光材料包括:CdSe量子点、ZnSe量子点以及CdZnSe量子点;

所述第四子像素单元为红绿量子点发光材料,所述红绿量子点发光材料包括:CdSe-ZnS量子点、CsPbBr3量子点、CsPbI3量子点以及CsPbCl3量子点。

5.如权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于:所述第一子像素单元的厚度大于或等于1um,所述第二子像素单元、所述第三子像素单元以及所述第四子像素单元的厚度均大于或等于2um。

6.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于:在所述的三种子像素单元中,所述量子点发光材料中量子点的质量分数大于或等于5%。

7.如权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于:所述彩膜基板还包括:

第一保护层,所述第一保护层设置于所述像素单元与所述衬底基板之间,并且覆盖所述衬底基板;

第二保护层,所述第二保护层设置于所述像素单元远离所述衬底基板的一侧,并且覆盖所述像素单元以及所述遮光矩阵;

公共电极,所述公共电极设置于所述第二保护层远离所述衬底基板的一侧。

8.如权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于:所述第一保护层以及所述第二保护层为透明材料,所述透明材料的消光系数趋近于零;所述第一保护层以及所述第二保护层的厚度均大于或等于1um。

9.一种如权利要求7所述的彩膜基板的制备方法,其特征在于:所述彩膜基板的制备方法包括如下步骤:

提供一衬底基板,并在所述衬底基板上沉积有机透明材料,形成第一保护层;

在所述第一保护层上沉积遮光材料,形成遮光矩阵;

在所述遮光矩阵中依次沉积不同的色阻材料,形成多个像素单元;其中每一像素单元均包括四种不同的子像素单元,并在所述的四种不同的子像素单元中具有三种子像素单元采用不同的量子点发光材料;

在所述遮光矩阵与所述像素单元远离所述衬底基板的一侧沉积有机透明材料,形成第二保护层;

在所述第二保护层上沉积电极材料,形成公共电极。

10.一种显示装置,包括如权利要求1至8中任一项所述的彩膜基板,其特征在于:所述显示装置还包括:

阵列基板,所述阵列基板与所述彩膜基板相对设置;

液晶层,所述液晶层设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间;

背光源,所述背光源设置于所述阵列基板远离所述彩膜基板的一侧,并且所述背光源所发出的光为蓝色背光。

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