[发明专利]一种4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法

权利要求书

1.一种4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于：将4-取代基环己醇类化合物，在以哌啶氮氧自由基作为催化剂，氮氧化合物和酸性化合物作为助催化剂的条件下，与氧化剂进行氧化反应，得到4-取代基环己酮类液晶材料。

2.根据权利要求1所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述合成方法的合成路线如下所示：

R为如下所示结构式的一种：

其中，X为亚烷基，R₁为C1-C5的烷基。

3.根据权利要求1或2所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述哌啶氮氧自由基为如下结构式所示的至少一种：

4.根据权利要求1-3任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述氮氧化合物为一氧化氮、二氧化氮、亚硝酸钠、亚硝酸钾、亚硝酸酯中的一种或者多种的组合；

所述酸性化合物为盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、醋酸、氢溴酸、氢氟酸、氢碘酸、甲磺酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、硫酸氢钠、硫酸氢钾、磷酸二氢钠中的一种或者多种的组合。

5.根据权利要求1-4任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述氧化剂为氧气或者空气。

6.根据权利要求1-5任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述哌啶氮氧自由基的用量为4-取代基环己醇类化合物的物质的量的1-10％；所述氮氧化合物的用量为4-取代基环己醇类化合物的物质的量的0.1-10％；所述酸性化合物的用量为4-取代基环己醇类化合物的物质的量的1-10％。

7.根据权利要求1-6任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述氧化反应的温度为0-100℃，反应用的溶剂为二氯甲烷、二氯乙烷、甲苯、乙腈、氯苯、氯仿、氟苯、三氟甲苯中的一种或多种的组合。

8.根据权利要求1-7任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，还包括：将4-取代基苯酚类化合物，在加氢催化剂的条件下，与氢气进行加氢反应，得到4-取代基环己醇类化合物，然后4-取代基环己醇类化合物再经氧化反应得到4-取代基环己酮类液晶材料。其具体合成路线如下所示：

R₂和R₃的结构式相同，为下述结构式中的一种：

其中，X为亚烷基，R₁为C1～C5的烷基。

9.根据权利要求8所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述加氢催化剂为雷尼型催化剂和/或过渡金属负载型催化剂；所述雷尼型催化剂优选为雷尼镍、雷尼钴、雷尼钯、雷尼铜中的一种或者多种的组合；所述过渡金属负载型催化剂优选为钯/碳、铂/碳、钌/碳、镍/氧化铝、铂/氧化铝、钯/四氧化三铁、镍-铜/氧化铝、铑/二氧化硅、铂-铑/氧化铝中的一种或者多种的组合。

10.根据权利要求1-9任一项所述4-取代基环己酮类液晶材料的合成方法，其特征在于，所述氢气的压力为1-8MPa，所述加氢反应的温度优选为50-150℃。