[发明专利]一种去除金属表面激光加工熔渣的方法及应用

权利要求书

1.一种去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，步骤如下：

熔渣分解：将待处理样品浸入熔渣分解液中，在40-70℃下进行熔渣分解处理，其中，所述熔渣分解液中包括硝酸和氢氟酸；

超声去渣：将熔渣分解处理后的样品浸入去渣液中，在室温条件下进行超声去渣处理，清洗干燥即可；

其中，所述去渣液中包括硝酸和氢氟酸，且所述去渣液中酸的浓度高于熔渣分解液中酸的浓度；

所述熔渣分解液中硝酸的浓度为2-10%；氢氟酸的浓度为1-8%；

所述去渣液中硝酸的浓度为25-50%；氢氟酸的浓度为5-15%。

2.根据权利要求1所述的去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，所述熔渣分解液中硝酸的浓度为4-6%；氢氟酸的浓度为3-4%。

3.根据权利要求1所述的去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，所述去渣液中硝酸的浓度为34-38%；氢氟酸的浓度为8-10%。

4.根据权利要求1-3任一项所述的去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，所述熔渣分解步骤的处理时间为20-240min。

5.根据权利要求1-3任一项所述的去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，所述超声去渣步骤的处理时间为20-240min。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，所述熔渣分解液中还包括硫酸、盐酸、过氧化氢、缓蚀剂中的至少一种；

所述去渣液中还包括盐酸、磷酸中的至少一种。

7.根据权利要求6所述的去除钴铬合金表面激光雕刻熔渣的方法，其特征在于，所述缓蚀剂为噻唑和硫脲唑类缓蚀剂、季胺盐类缓蚀剂、酰胺类缓蚀剂中的至少一种。