[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置在审
| 申请号： | 202110144060.0 | 申请日： | 2021-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN112968044A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 王伟;杨鸣 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32;H01L23/64;H01L21/77;H01Q1/22;H01Q1/38 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 魏艳新;姜春咸 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，包括：
柔性衬底；
设置在所述柔性衬底上的显示结构层，所述显示结构层朝向背离所述柔性衬底的方向出光；
其中，所述柔性衬底包括：第一柔性基底、设置在所述第一柔性基底靠近所述显示结构层一侧的第二柔性基底、以及设置在所述第一柔性基底与所述第二柔性基底之间的天线层；所述天线层配置为，发射或接收天线信号。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一柔性基底与所述天线层之间设置有阻挡层。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述天线层与所述第二柔性基底相接触。
4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述天线层与所述第二柔性基底之间设置有：
第一绝缘层和/或与所述第二柔性基底相接触的半导体层。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示结构层包括：
多个显示单元；
所述天线层在所述第一柔性基底上的正投影至少覆盖一个所述显示单元在所述第一柔性基底上的正投影。
6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，每个所述显示单元包括：
像素电路以及与所述像素电路连接的发光单元；
所述发光单元设置在所述像素电路远离所述第二柔性基底的一侧。
7.根据权利要求1至4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述天线层在所述第一柔性基底上的正投影为线圈、矩形、椭圆或圆形。
8.根据权利要求1至4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述天线层包括非透光材料。
9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至8中任一项所述的显示基板。
10.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
形成柔性衬底；
在所述柔性衬底上形成显示结构层，所述显示结构层朝向背离所述柔性衬底的方向出光；
其中，所述柔性衬底包括：第一柔性基底、设置在所述第一柔性基底靠近所述显示结构层一侧的第二柔性基底、以及设置在所述第一柔性基底与所述第二柔性基底之间的天线层；所述天线层配置为，发射或接收天线信号。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
