[发明专利]一种光处理设备在审
申请号: | 202110143719.0 | 申请日: | 2021-02-02 |
公开(公告)号: | CN112808549A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 |
发明(设计)人: | 卢双豪;尹涛;张金权;康远浩;汪海波 | 申请(专利权)人: | 北京梦之墨科技有限公司 |
主分类号: | B05D3/06 | 分类号: | B05D3/06 |
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地址: | 100081 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 处理 设备 | ||
1.一种光处理设备,其特征在于,包括:基座、固定在所述基座上的光源、托盘、以及介于光源与托盘之间的数字化掩模板;其中,所述托盘上用以放置待处理的基材;所述数字化掩模板用以根据用户设置的电子图形显示相应的遮光图案,使所述光源射出的光线穿透所述数字化掩模板对所述托盘上的基材进行与所述遮光图案相反的光处理。
2.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,还包括:设置于所述光源与所述数字化掩模板之间、用以防止光线外泄的遮光罩。
3.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,还包括:遮盖所述光源、托盘、数字化掩模板的壳体。
4.根据权利要求3所述的光处理设备,其特征在于,还包括:装配在所述基座上的移动组件;所述托盘设置于所述移动组件之上,以便于通过所述移动组件将所述托盘抽出进行基材的放/取,以及通过所述移动组件将托盘推入使所述基材与所述数字化掩模板的对准。
5.根据权利要求4所述的光处理设备,其特征在于,还包括:与所述托盘配合的趋近组件,用以在所述托盘推入时,驱使基材逼近所述数字化掩模板,以及在所述托盘抽出时,驱使基材远离所述数字化掩模板。
6.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,所述数字化掩模板为数控遮透光显示面板。
7.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,所述数字化掩模板选用LCD显示面板或OLED显示面板。
8.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,所述光源发射的光线波长为350~460纳米。
9.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,所述光源与所述数字化掩模板之间设置有光学透镜,用以将所述光源射出的光线的方向转换为垂直于所述数字化掩模板的方向。
10.根据权利要求1所述的光处理设备,其特征在于,还包括:设于所述光源背板上的散热组件。
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