[发明专利]一种光栅式自旋转打光模型的构建方法及装置

权利要求书

1.一种光栅式自旋转打光模型的构建方法，其特征在于，包括：

构建光栅式自旋转光面光源模型，确定工件距离光源光面的高度以及所述工件的表面反射光相对于工件的微小区域法线的角度；

构建光栅式自旋转光栅模型，根据光栅半径以及工业相机拍摄频率确定光栅旋转电机的转速、角速度、负载惯量以及负载扭矩；

结合所述光栅式自旋转光面光源模型以及所述光栅式自旋转光栅模型，构建光栅式自旋转打光模型。

2.根据权利要求1所述的光栅式自旋转打光模型的构建方法，其特征在于，所述构建光栅式自旋转光面光源模型，确定工件距离光源光面的高度以及角度具体包括：

构建光栅式自旋转光面模型，所述光栅式自旋转光面模型包括光源、工业相机以及工件，所述光源设置于所述工件所在平面的第一高度以及第一角度位置，所述工业相机设置于所述工件所在平面的第二高度以及第二角度；

构建所述工件的微小区域表面立体角的光照度模型，得到所述光源的单位面积光源入射光强度、所述光源的发光面微小区域面积、所述工件的表面微小区域面积、所述光源的光源入射光相对所述光源的发光面微小区域法线的角度、所述光源的光源入射光相对所述工件的表面微小区域法线的角度、所述工件距离光源光面的高度以及所述工件的表面微小区域面立体角的光照度之间的第一关系式；

根据所述第一关系式确定所述工件距离光源光面的高度；

构建所述工件的表面反射光强度模型，得到所述光源的单位面积光源入射光强度、所述光源的发光面微小区域面积、所述工件的表面微小区域面积、所述光源的光源入射光相对所述工件的表面微小区域法线的角度、所述工件距离光源光面的高度、所述工件的表面反射光相对于工件的微小区域法线的角度以及所述工件的表面反射光强度之间的第二关系式；

根据所述第二关系式确定所述工件的表面反射光相对于工件的微小区域法线的角度。

3.根据权利要求2所述的光栅式自旋转打光模型的构建方法，其特征在于，所述第一关系式具体为：

4.根据权利要求2所述的光栅式自旋转打光模型的构建方法，其特征在于，所述第二关系式具体为：

5.根据权利要求1所述的光栅式自旋转打光模型的构建方法，其特征在于，所述构建光栅式自旋转光栅模型，根据光栅半径以及工业相机拍摄频率确定光栅旋转电机的转速、角速度、负载惯量以及负载扭矩具体包括：

构建光栅式自旋转光栅模型，所述光栅式自旋转光栅模型包括光栅镂空角度、光栅镂空外侧直径、光栅整体外径、工业相机拍摄频率、光栅初始转动角度、光栅旋转电机的转速；

根据所述光栅初始转动角度以及光栅旋转电机的转速得到所述光栅旋转电机的角速度；

根据所述光栅镂空外侧直径以及工作台质量得到所述光栅旋转电机的负载惯量；

根据所述工作台的转动惯量以及所述光栅旋转电机的负载惯量得到所述光栅旋转电机的负载扭矩；

结合所述光栅旋转电机的转速、角速度、负载惯量以及负载扭矩确定电机的型号。

6.一种光栅式自旋转打光模型的构建装置，其特征在于，包括：

第一构建单元，用于构建光栅式自旋转光面光源模型，确定工件距离光源光面的高度以及所述工件的表面反射光相对于工件的微小区域法线的角度；

第二构建单元，用于构建光栅式自旋转光栅模型，根据光栅半径以及工业相机拍摄频率确定光栅旋转电机的转速、角速度、负载惯量以及负载扭矩；

处理单元，用于结合所述光栅式自旋转光面光源模型以及所述光栅式自旋转光栅模型，构建光栅式自旋转打光模型。