[发明专利]一种红外探测器及其制备方法

权利要求书

1.一种红外探测器，其特征在于，包括：

衬底以及位于所述衬底上的电极层和热敏层，所述电极层位于所述热敏层临近所述衬底的一侧，所述电极层与所述热敏层接触设置；

所述红外探测器包括多个矩阵排列的红外探测器像元，所述红外探测器像元包括吸收板结构、至少两个微桥柱和至少两个梁结构，所述吸收板结构通过对应的所述梁结构连接至对应的所述微桥柱；

所述吸收板结构仅包括所述电极层和所述热敏层，所述梁结构仅包括所述电极层和所述热敏层；其中，构成所述热敏层的材料包括非晶硅、非晶碳、非晶锗或非晶硅锗中的一种或几种，所述热敏层充当所述吸收板结构的支撑结构；

构成所述电极层的材料至少包括钛钨合金，构成所述衬底和所述热敏层之间牺牲层的材料包括氧化硅；

所述的红外探测器还包括位于所述衬底上的反射层，位于所述反射层上的保护层，对应所述微桥柱所在位置，所述电极层通过贯穿所述保护层的通孔与所述反射层电连接，所述保护层背离所述衬底一侧的表面位于同一平面。

2.根据权利要求1所述的红外探测器，其特征在于，构成所述电极层的材料还包括镍铬合金、镍铂合金、镍硅合金、镍、铂、钨、铝、铜或金中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的红外探测器，其特征在于，所述反射层与所述衬底接触设置，构成所述反射层的材料包括铝、铜、钛或钨中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的红外探测器，其特征在于，构成所述保护层的材料包括氮化硅、碳化硅、氧化铝、硅或者非晶碳中的一种或几种。

5.一种红外探测器的制备方法，其特征在于，所述红外探测器包括多个矩阵排列的红外探测器像元，所述红外探测器像元包括吸收板结构、至少两个微桥柱和至少两个梁结构，所述吸收板结构通过对应的所述梁结构连接至对应的所述微桥柱；

所述红外探测器的制备方法包括：

在衬底上形成牺牲层；其中，构成所述牺牲层的材料包括氧化硅；

在所述牺牲层上形成图案化的电极层；其中，所述电极层对应所述吸收板结构形成图案化结构，构成所述电极层的材料至少包括钛钨合金；

在图案化的所述电极层上形成整面的热敏层，刻蚀所述热敏层和所述电极层以形成所述吸收板结构和所述梁结构；其中，所述热敏层对应所述吸收板结构和所述梁结构形成图案化结构，所述电极层对应所述吸收板结构和所述梁结构形成图案化结构，构成所述热敏层的材料包括非晶硅、非晶碳、非晶锗或非晶硅锗中的一种或几种；所述吸收板结构仅包括所述电极层和所述热敏层，所述梁结构仅包括所述电极层和所述热敏层，所述热敏层充当所述吸收板结构的支撑结构；

释放所述牺牲层；

在所述衬底上形成所述牺牲层之前，还包括：

在所述衬底上形成图案化的反射层；

在图案化的所述反射层上形成图案化的保护层；其中，对应所述微桥柱所在位置，所述电极层通过贯穿所述保护层的通孔与所述反射层电连接，所述保护层背离所述衬底一侧的表面位于同一平面。

6.根据权利要求5所述的红外探测器的制备方法，其特征在于，所述在所述牺牲层上形成图案化的电极层，包括：

在所述牺牲层上形成整面的电极层；

对应所述吸收板结构所在位置刻蚀所述电极层以形成图案化的所述电极层。

7.根据权利要求5所述的红外探测器的制备方法，其特征在于，构成所述反射层的材料包括铝、铜、钛或钨中的一种或几种；构成所述保护层的材料包括氮化硅、碳化硅、氧化铝、硅或者非晶碳中的一种或几种；

在图案化的所述反射层上形成图案化的保护层之后，还包括在图案化的所述保护层上形成图案化的牺牲层。

8.根据权利要求5所述的红外探测器的制备方法，其特征在于，

所述释放所述牺牲层包括：

利用氟化氢气体释放所述牺牲层。