[发明专利]一种耐高温光学反射膜及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种耐高温光学反射膜，其特征在于，所述光学反射膜包括金属膜和抗氧化层；所述抗氧化层位于所述金属膜的任意一侧；

所述金属膜的原料包括纯金属或合金；

所述纯金属包括铂、铑或铱中的任意一种或至少两种的组合；

所述合金包括铂、铑或铱中至少两种组成的合金。

2.根据权利要求1所述的光学反射膜，其特征在于，所述金属膜为至少1层；

优选地，所述金属膜的总厚度为50～300nm；

优选地，所述光学反射膜还包括连接层；

优选地，所述连接层位于所述金属膜没有抗氧化层的一侧；

优选地，所述连接层的原料包括钛或铬；

优选地，所述连接层的厚度为0.1～10nm。

3.根据权利要求1或2所述的光学反射膜，其特征在于，所述抗氧化层至少为1层，优选为2～3层；

优选地，所述抗氧化层包括氮化硼层、氮化硅层、氮化钛层、二氧化硅层或三氧化二铝层中的任意一种或至少两种的组合；

优选地，所述抗氧化层的原料包括其所对应的靶材；

优选地，所述氮化硅层的原料还包括氨气和四氢化硅的组合；

优选地，所述氮化钛层的原料还包括钛靶材和氮气的组合；

优选地，所述二氧化硅层的原料还包括硅烷和氧气的组合；

优选地，所述抗氧化层的总厚度不小于1nm。

4.根据权利要求1-3任一项所述的光学反射膜，其特征在于，所述光学反射膜的适用波长为0.25～20μm，优选为0.38～20μm；

优选地，所述光学反射膜的使用温度不超过900℃。

5.一种如权利要求1-4任一项所述的光学反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

在基底上依次镀制金属膜和抗氧化层，得到耐高温光学反射膜。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述基底包括石英镜片；

优选地，镀制所述金属膜之前先在基底上镀制连接层。

7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，镀制所述金属膜的过程中控制所述基底的温度为25～500℃；

优选地，所述金属膜的镀膜方法包括电子束蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、激光蒸发镀膜、高真空电阻蒸发镀膜中的任意一种。

8.根据权利要求5-7任一项所述的制备方法，其特征在于，所述抗氧化层的镀制方法包括电子束蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、激光蒸发镀膜、高真空电阻蒸发镀膜或高密度等离子体增强化学气相沉积镀膜中的任意一种或至少两种的组合。

9.根据权利要求5-8任一项所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：

在25～500℃的基底上依次镀制0.1～10nm的连接层、至少一层的金属膜和至少一层的抗氧化层，所述金属膜的总厚度为50～300nm，所述抗氧化层的总厚度不小于1nm，得到使用温度不超过900℃、适用波长为0.25～20μm的耐高温光学反射膜。

10.一种如根据权利要求1-4任一项所述的光学反射膜的用途，其特征在于，所述光学反射膜用于高温光学元件；

优选地，所述高温光学元件包括光学反射镜或反射聚光镜。