[发明专利]镜面盖板的制作方法及镜面盖板在审
| 申请号： | 202110136177.4 | 申请日： | 2021-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN112941480A | 公开（公告）日： | 2021-06-11 |
| 发明（设计）人： | 汤毅 | 申请（专利权）人： | 蓝思科技（长沙）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/20;C23C14/18;C23C14/16;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 赵志远 |
| 地址： | 410100 湖南省长沙*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 盖板 制作方法 | ||
1.一种镜面盖板的制作方法，其特征在于，所述镜面盖板的制作方法包括：
第一镀膜步骤：在盖板的待镀膜侧镀设第一膜层；
第二镀膜步骤：在所述第一膜层上镀设第二膜层，利用形成所述第二膜层的材料撞击所述第一膜层以将所述第一膜层形成的针孔缺陷修复。
2.根据权利要求1所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，
所述第一镀膜步骤和所述第二镀膜步骤均采用磁控溅射法镀设膜层，所述磁控溅射法所采用的靶材由金属形成。
3.根据权利要求2所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，
所述第一膜层由所述金属形成；
所述第一镀膜步骤采用第一镀膜功率，所述第一镀膜功率被设置为1kw至2kw。
4.根据权利要求3所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，
所述第二膜层由所述金属形成；
所述第二镀膜步骤采用第二镀膜功率，所述第二镀膜功率与所述第一镀膜功率之差被设置为大于5kw。
5.根据权利要求4所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，所述第二镀膜功率被设置为大于8kw。
6.根据权利要求4所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，所述第二膜层的厚度被设置为20nm至30nm。
7.根据权利要求3所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，所述第一膜层的厚度被设置为5nm至10nm。
8.根据权利要求2所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，所述镜面盖板的制作方法还包括：
第三镀膜步骤：利用所述磁控溅射法，在所述第二膜层上镀设第三膜层，所述第三膜层由所述金属的氧化物形成。
9.根据权利要求8所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，所述第三镀膜步骤还包括：
设置所述第三镀膜步骤所采用的第三镀膜功率为3kw至5kw，所述磁控溅射法的气体比例为Ar：O2＝1:1，所述第三膜层的厚度被设置为10nm至20nm。
10.根据权利要求8所述的镜面盖板的制作方法，其特征在于，
在所述第一镀膜步骤之前执行清洁步骤，所述清洁步骤用于对所述盖板进行清洁；
所述第一镀膜步骤、所述第二镀膜步骤和所述第三镀膜步骤均包括：所述磁控溅射法的气体的流量为450sccm，所述磁控溅射法的溅射距离为1cm至3cm。
11.一种镜面盖板，其特征在于，所述镜面盖板是由权利要求1至10中任一项所述的镜面盖板的制作方法所制作的。
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