[发明专利]一种显示面板及其制备方法、显示装置有效
| 申请号: | 202110135389.0 | 申请日: | 2021-02-01 |
| 公开(公告)号: | CN112952017B | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
| 发明(设计)人: | 陈方;夏志强 | 申请(专利权)人: | 厦门天马微电子有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/00;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人: | 张俊杰 |
| 地址: | 361101 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底包括光学器件区、围绕所述光学器件区的非显示区以及围绕所述非显示区的显示区;
所述衬底还包括位于所述显示区和所述非显示区的发光层和电极层,位于所述非显示区的至少一个凹槽,所述凹槽隔断所述发光层或所述电极层;
位于所述衬底一侧的第一封装层,所述第一封装层覆盖所述凹槽的底面以及侧壁,所述第一封装层在所述凹槽中构成容纳空腔,所述容纳空腔的底面和顶面被所述第一封装层覆盖,所述容纳空腔的侧面被所述第一封装层部分围绕;所述容纳空腔的底面包括所述容纳空腔朝向所述衬底一侧表面,所述容纳空腔的顶面包括所述容纳空腔背离所述衬底一侧表面;
位于所述容纳空腔中的预埋结构;
所述衬底包括:
依次层叠设置的第一有机层、无机层和第二有机层;
所述凹槽贯穿所述第二有机层,且暴露出所述无机层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述预埋结构包括光敏材料。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述预埋结构包括正性光刻胶。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述预埋结构的裸露表面与覆盖所述容纳空腔顶面的第一封装层的侧面构成平整平面。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述凹槽的顶面宽度小于所述凹槽的底面宽度,所述凹槽的顶面包括所述凹槽背离所述衬底一侧表面,所述凹槽的底面包括所述凹槽朝向所述衬底一侧表面。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:
第二封装层;
在所述非显示区,所述第二封装层覆盖所述第一封装层以及所述预埋结构的裸露表面。
7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括:位于所述非显示区的挡墙结构;
所述凹槽位于所述挡墙结构包围区域内部,
所述第一封装层还覆盖所述挡墙结构的侧壁以及顶面。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供衬底,所述衬底包括光学器件区、围绕所述光学器件区的非显示区以及围绕所述非显示区的显示区;
在所述非显示区形成至少一个凹槽;
形成第一封装层,所述第一封装层覆盖所述凹槽的底面以及侧壁,所述第一封装层覆盖所述凹槽的侧壁的部分以及位于所述凹槽朝向显示方向一侧的部分构成容纳空腔;
形成位于所述容纳空腔中的预埋结构;
所述形成位于所述凹槽空腔中的预埋结构包括:
形成正性光刻胶层,所述正性光刻胶层至少覆盖位于所述凹槽中的第一封装层;
沿所述显示面板的出光方向的反方向提供光照,以对所述正性光刻胶层进行曝光;
对曝光后的正性光刻胶层进行显影,以保留位于所述容纳空腔中的正性光刻胶层作为所述预埋结构。
9.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1-7任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





