[发明专利]一种高通量薄膜的制备装置及方法

说明书

本发明公开一种高通量薄膜的制备装置及方法，涉及高通量薄膜制备装置技术领域，主要结构包括样品台、多个溅射靶和挡板；所述样品台设置于所述多个溅射靶的中部，并与所述多个溅射靶相隔一定距离；所述挡板可移动的设置于所述多个溅射靶之间且位于所述样品台正下方。通过调整挡板和样品台之间的距离，改变溅射靶的功率，从而在样品台上由边缘向中部溅射出不同成分的镀膜，从而能够对装置内部一次抽真空即可完成多个样品的制备，大大缩短了制备样品所需的时间，从而提高材料的研发速度。

技术领域

本发明涉及高通量薄膜制备装置技术领域，特别是涉及一种高通量薄膜的制备装置及方法。

背景技术

新材料的研发是一个复杂的过程，通常情况下，开发者一次只能制备一种成分单一的材料，并对其相关性能进行测试。这种以试错为特征的传统材料研究方法不仅耗时费力，严重制约了材料的研发速度，而且需要较高的研发费用。

鉴于此，必须探索更高效的材料制备方法。

发明内容

为解决以上技术问题，本发明提供一种高通量薄膜的制备装置及方法，能够一次制备出多种成分不同的材料，从而提高材料的研发速度。

为实现上述目的，本发明提供了如下方案：

本发明提供一种高通量薄膜的制备装置，包括样品台、多个溅射靶和挡板；所述样品台设置于所述多个溅射靶的中部，并与所述多个溅射靶相隔一定距离；所述挡板可移动的设置于所述多个溅射靶之间且位于所述样品台正下方。

可选的，所述挡板与一个线性驱动机构传动连接。

可选的，所述线性驱动机构为气缸或液压缸或直线电机。

可选的，所述挡板在靠近所述样品台时可遮盖所述样品台，所述挡板在靠近所述多个溅射靶时完全不遮盖所述样品台。

可选的，所述挡板为实心挡板或具有镂空结构的挡板。

可选的，还包括控制系统，所述控制系统用于控制所述多个溅射靶的溅射功率以及所述挡板的位置。

本发明还公开一种上述的高通量薄膜的制备装置的制备方法，包括以下步骤：

S1：将所需材料成分的靶材安置于各溅射靶上，并调整各溅射靶的高度和角度；

S2：对装置内部抽真空，之后注入溅射气体，调整装置内部的气压、温度和溅射靶的溅射功率；

S3：打开溅射电源开关，开始溅射镀膜；

S4：在溅射过程中，通过调整挡板的位置，改变挡板与样品台的相对距离，实现对一个溅射靶或几个溅射靶的部分或完全遮挡，并改变溅射靶的溅射功率，在样品台上由边缘向中部溅射出不同成分的镀膜；

S5：镀膜完成后，关闭溅射电源开关，取出样品台，得到一个具有多种不同成分的镀膜样品。

本发明相对于现有技术取得了以下技术效果：

本发明中的高通量薄膜的制备装置，主要结构包括样品台、不少于两个溅射靶和挡板；通过调整挡板和样品台之间的距离，改变溅射靶的功率，从而在样品台上由边缘向中部溅射出不同成分的镀膜，从而能够对装置内部一次抽真空即可完成多个样品的制备，大大缩短了制备样品所需的时间，从而提高材料的研发速度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明高通量薄膜的制备装置的剖视结构示意图；

图2为本发明高通量薄膜的制备装置的侧向结构示意图；