[发明专利]一种减小土壤类型对多环芳烃荧光强度影响的校正方法有效

专利信息
申请号: 202110133132.1 申请日: 2021-02-01
公开(公告)号: CN113155789B 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 雷涛;杨仁杰;董桂梅;朱文碧;黎少财;刘海学 申请(专利权)人: 天津农学院
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64;G01N21/359;G01N21/3563;G01N1/28;G01N1/38
代理公司: 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 代理人: 张博
地址: 300384 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 一种 减小 土壤 类型 芳烃 荧光 强度 影响 校正 方法
【权利要求书】:

1.一种减小土壤类型对多环芳烃荧光强度影响的校正方法,其特征在于:包括如下步骤:

步骤1:选取5个不同类型的土壤样本,并针对该土壤样本制备相同浓度多环芳烃的土壤样品;

步骤2:扫描步骤1中制备的每个土壤样品相应的荧光谱和近红外漫反射光谱,得到5个土壤样品的荧光谱和近红外漫反射光谱;

步骤3:对于步骤2中的荧光谱,选定用于建立定量分析多环芳烃的5个荧光谱带M;

步骤4:对于步骤2中的近红外漫反射光谱,选定用于校正的近红外漫反射光谱波长谱带N;

步骤5:提取步骤3中5个苯并[ghi]芘土壤样本在487nm处的荧光强度,得到相应的荧光强度矩阵F;

步骤6:提取步骤4中近红外漫反射光谱波长谱带N的强度,得到相应的近红外漫反射强度矩阵S;

步骤7:对步骤6得到的矩阵S进行10倍的乘积计算,得到变换后的近红外漫反射强度矩阵E;

步骤8:对步骤7中得到的矩阵E进行以e为底的指数函数计算,得到对应的修正矩阵G;

步骤9:通过步骤8中得到的修正矩阵G对步骤5中所提取的荧光强度矩阵F进行校正,以减小土壤类型对多环芳烃荧光的强度影响。

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