[发明专利]一种减小土壤类型对多环芳烃荧光强度影响的校正方法有效
申请号: | 202110133132.1 | 申请日: | 2021-02-01 |
公开(公告)号: | CN113155789B | 公开(公告)日: | 2022-07-26 |
发明(设计)人: | 雷涛;杨仁杰;董桂梅;朱文碧;黎少财;刘海学 | 申请(专利权)人: | 天津农学院 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01N21/359;G01N21/3563;G01N1/28;G01N1/38 |
代理公司: | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人: | 张博 |
地址: | 300384 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 减小 土壤 类型 芳烃 荧光 强度 影响 校正 方法 | ||
1.一种减小土壤类型对多环芳烃荧光强度影响的校正方法,其特征在于:包括如下步骤:
步骤1:选取5个不同类型的土壤样本,并针对该土壤样本制备相同浓度多环芳烃的土壤样品;
步骤2:扫描步骤1中制备的每个土壤样品相应的荧光谱和近红外漫反射光谱,得到5个土壤样品的荧光谱和近红外漫反射光谱;
步骤3:对于步骤2中的荧光谱,选定用于建立定量分析多环芳烃的5个荧光谱带M;
步骤4:对于步骤2中的近红外漫反射光谱,选定用于校正的近红外漫反射光谱波长谱带N;
步骤5:提取步骤3中5个苯并[ghi]芘土壤样本在487nm处的荧光强度,得到相应的荧光强度矩阵F;
步骤6:提取步骤4中近红外漫反射光谱波长谱带N的强度,得到相应的近红外漫反射强度矩阵S;
步骤7:对步骤6得到的矩阵S进行10倍的乘积计算,得到变换后的近红外漫反射强度矩阵E;
步骤8:对步骤7中得到的矩阵E进行以e为底的指数函数计算,得到对应的修正矩阵G;
步骤9:通过步骤8中得到的修正矩阵G对步骤5中所提取的荧光强度矩阵F进行校正,以减小土壤类型对多环芳烃荧光的强度影响。
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