[发明专利]特征提取方法、装置、存储介质及电子设备

权利要求书

1.一种特征提取方法，其特征在于，包括：

通过第一特征编码模块提取待处理图像的低层级特征图，以及通过第二特征编码模块提取所述待处理图像的高层级特征图；

通过特征聚合模块对所述低层级特征图进行第一处理，得到与所述低层级特征图分辨率相同的第一特征图，以及通过所述特征聚合模块对所述高层级特征图进行第二处理，得到与所述低层级特征图分辨率相同的第二特征图；

通过所述特征聚合模块融合所述第一特征图和所述第二特征图得到第一融合特征图；

通过所述特征聚合模块对所述低层级特征图进行第三处理，得到与所述高层级特征图分辨率相同的第三特征图，以及通过所述特征聚合模块对所述高层级特征图进行第四处理，得到与所述高层级特征图分辨率相同的第四特征图；

通过所述特征聚合模块融合所述第三特征图和所述第四特征图得到第二融合特征图；

通过所述特征聚合模块将所述第一融合特征图和所述第二融合特征图采样到同一分辨率后进行融合，得到对应所述待处理图像的目标融合特征图。

2.如权利要求1所述的特征提取方法，其特征在于，所述特征聚合模块包括第一特征聚合单元以及点卷积层，其中，所述第一特征聚合单元包括依次连接的深度卷积层、批正则化层、点卷积层以及批正则化层，所述通过特征聚合模块对所述低层级特征图进行第一处理，得到与所述低层级特征图分辨率相同的第一特征图，包括：

通过所述第一特征聚合单元以及所述点卷积层依次对所述低层级特征图进行深度卷积处理、批正则化处理、点卷积处理、批正则化处理、以及点卷积处理，得到所述第一特征图。

3.如权利要求1所述的特征提取方法，其特征在于，所述特征聚合模块包括第二特征聚合单元、双线性插值层以及激活函数层，其中，所述第二特征聚合单元包括依次连接的标准卷积层以及批正则化层，所述通过所述特征聚合模块对所述高层级特征图进行第二处理，得到与所述低层级特征图分辨率相同的第二特征图，包括：

通过所述第二特征聚合单元、所述双线性插值层以及所述激活函数层依次对所述高层级特征图进行标准卷积处理、批正则化处理、双线性插值处理、以及激活处理，得到所述第二特征图。

4.如权利要求1所述的特征提取方法，其特征在于，所述通过所述特征聚合模块融合所述第一特征图和所述第二特征图得到第一融合特征图，包括：

通过所述特征聚合模块将所述第一特征图和所述第二特征图相乘，得到所述第一融合特征图。

5.如权利要求1所述的特征提取方法，其特征在于，所述特征聚合模块包括第三特征聚合单元以及平均池化层，其中，所述第三特征聚合单元包括标准卷积层和批正则化层，所述通过所述特征聚合模块对所述低层级特征图进行第三处理，得到与所述高层级特征图分辨率相同的第三特征图，包括：

通过所述第三特征聚合单元以及所述平均池化层依次对所述低层级特征图进行标准卷积处理、批正则化处理、以及平均池化处理，得到所述第三特征图。

6.如权利要求1所述的特征提取方法，其特征在于，所述特征聚合模块包括第四特征聚合单元、点卷积层以及激活函数层，其中，所述第四特征聚合单元包括标准卷积层和批正则化层，所述通过所述特征聚合模块对所述高层级特征图进行第四处理，得到与所述高层级特征图分辨率相同的第四特征图，包括：

通过所述第四特征聚合单元、所述点卷积层以及所述激活函数层依次对所述高层级特征图进行标准卷积处理、批正则化处理、点卷积处理以及激活处理，得到所述第四特征图。

7.如权利要求1所述的特征提取方法，其特征在于，所述通过所述特征聚合模块融合所述第三特征图和所述第四特征图得到第二融合特征图，包括：

通过所述特征聚合模块将所述第三特征图和所述第四特征图相乘，得到所述第二融合特征图。