[发明专利]掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板

说明书

本发明公开了一种掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板，掩膜板用于显示基板的蒸镀，显示基板包括多个显示单元，显示单元包括显示区以及至少部分由显示区环绕的透光区，掩膜板包括与多个显示单元对应的多个掩膜单元，多个掩膜单元包括可对位掩膜单元，可对位掩膜单元包括：显示蒸镀区，显示蒸镀区对应显示单元的显示区，显示蒸镀区设置有多个第一蒸镀开口；透光蒸镀区，透光蒸镀区对应显示单元的透光区，透光蒸镀区设置有对位孔，对位孔用于掩膜板与显示基板的对位。本发明避免了掩膜板上对位孔处易残留清洗药液的问题，使得蒸镀对位时对位孔能够被对位镜头准确抓取。

技术领域

本发明涉及显示基板制备领域，具体涉及一种掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板。

背景技术

现有技术中，通常采用高精度金属掩模板(Fine Metal Mask，FMM)作为蒸镀掩模板，将有机发光材料通过FMM上的开口蒸镀在阵列基板上对应的开口区域，以形成有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)器件。

目前，蒸镀过程中通常使用焊接在框架上的对位掩膜板的对位孔建立坐标系进行FMM精密张网并对显示基板进行蒸镀对位。多次蒸镀使用后，需要用药液对FMM进行清洗，以去除上面残留的蒸镀用有机材料，保证FMM再次使用时的清洁，但由于对位掩膜板与框架之间存在较大的搭接接触面积，导致清洗时框架上通孔以及两者间隙内会进入清洗药液，清洗风干后对位掩膜板上的对位孔处易残留药液污渍，后续蒸镀对位时，残留污渍会影响镜头对对位孔的抓取，不仅降低了蒸镀对位效率，甚至会引起误抓风险；另外，药液残留也会影响蒸镀机内的真空度，易使发光器件产生彩斑等显示不良问题。

因此，亟需提供一种新的蒸镀对位方式。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜板、显示基板蒸镀组件及显示基板，旨在解决对位掩膜板上对位孔处易存在药液残留的问题。

第一方面，本发明实施例提供一种掩膜板，用于显示基板的蒸镀，显示基板包括多个显示单元，显示单元包括显示区以及至少部分由显示区环绕的透光区，掩膜板包括与多个显示单元对应的多个掩膜单元，多个掩膜单元包括可对位掩膜单元，可对位掩膜单元包括：显示蒸镀区，显示蒸镀区对应显示单元的显示区，显示蒸镀区设置有多个第一蒸镀开口；透光蒸镀区，透光蒸镀区对应显示单元的透光区，透光蒸镀区设置有对位孔，对位孔用于掩膜板与显示基板的对位。

根据本发明第一方面的前述实施方式，对位孔为盲孔；或者，对位孔包括至少一个通孔；通孔与第一蒸镀开口的形状相同。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，透光蒸镀区包括遮挡区，遮挡区包括半刻区，半刻区的表面粗糙度大于相邻区域的表面粗糙度。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，遮挡区还包括第一全厚区，第一全厚区至少部分环绕半刻区。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，透光蒸镀区还包括像素过渡区，像素过渡区设置在遮挡区和显示蒸镀区之间且至少部分环绕遮挡区，像素过渡区设有多个第二蒸镀开口。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，对位孔设置在像素过渡区，透光蒸镀区还包括第二全厚区，第二全厚区设置在对位孔与像素过渡区之间且环绕对位孔，第二全厚区的宽度大于相邻第二蒸镀开口之间的最大间距。

根据本发明第一方面的前述任一实施方式，多个掩膜单元阵列排布，其中，可对位掩膜单元的数量为至少四个，存在四个可对位掩膜单元上的对位孔分别位于第一虚拟四边形的顶点上。

第二方面，本发明实施例提供一种显示基板蒸镀组件，包括：如前任一实施例所述的掩膜板；显示基板，包括多个显示单元，显示单元包括显示区以及至少部分由显示区环绕的透光区，多个显示单元与掩膜板的多个掩膜单元对应，多个显示单元包括与可对位掩膜单元对应的可对位显示单元，可对位显示单元的透光区设有对位标记，其中对位标记与对应可对位掩膜单元的对位孔错位设置。