[发明专利]蒸镀掩模的制造方法及蒸镀掩模的制造装置

说明书

本发明提供一种能够减少剥离不良的蒸镀掩模的制造方法及制造装置。在蒸镀掩模的制造方法中，在形成有蒸镀图案的第一镀敷层上经由粘接层配置掩模框架，在掩模框架上配置间隔件，以覆盖第一镀敷层、掩模框架和间隔件的方式配置膜，对膜的下方侧的空间进行减压，使得膜按压间隔件，通过间隔件按压掩模框架，来将掩模框架与所述镀敷层压接在一起。根据本发明，能够减少剥离不良。

技术领域

本发明涉及一种蒸镀掩模的制造方法及制造装置。特别是本发明涉及一种在掩模框架中具有薄膜状的掩模主体的蒸镀掩模的制造方法及制造装置。

背景技术

作为平板显示装置的一例，可举出液晶显示装置或有机EL(Electroluminescence)显示装置。这些显示装置是将包含绝缘体、半导体、导电体等多种材料的薄膜层叠于基板上的结构体。通过对这些薄膜适当地进行图案化并连接，来实现作为显示装置的功能。

形成薄膜的方法大致被分类为气相法、液相法及固相法。另外，气相法被分类为物理气相法和化学气相法。作为物理气相法的代表例，已知有蒸镀法。蒸镀法中最简便的方法是真空蒸镀法。真空蒸镀法通过在高真空下加热材料来使材料升华或蒸发，生成材料的蒸气(以下，将这些总称为气化)。在用于堆积该材料的区域(以下的蒸镀区域)中，气化了的材料固化、堆积，从而获得材料的膜。为了对蒸镀区域有选择地形成膜，在此外的区域(以下的非蒸镀区域)不使材料堆积，而使用掩模(蒸镀掩模)来进行真空蒸镀(参照专利文献1及2)。

专利技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-87840号公报。

专利文献2：日本特开2013-209710号公报。

发明内容

蒸镀掩模在形成有蒸镀图案的掩模主体上接合有用于固定掩模主体的掩模框架。如果掩模主体和掩模框架的接合不均匀，则出现应力集中的接合部分，在该部分，掩模主体容易从掩模框架剥离。特别是在蒸镀工序中，由于来自蒸镀装置的辐射热而使蒸镀掩模的温度升高，因此，在接合不均匀的蒸镀掩模中容易产生剥离不良，蒸镀掩模难以反复或长期使用。需要将掩模主体和掩模框架均匀地接合的蒸镀掩模。

鉴于上述问题，本发明的目的之一在于提供一种减少剥离不良的蒸镀掩模的制造方法。另外一个目的在于提供一种减少剥离不良的蒸镀掩模的制造方法中使用的制造装置。

本发明的一实施方式提供一种蒸镀掩模的制造方法，其中，在形成有蒸镀图案的第一镀敷层上经由粘接层配置掩模框架，在掩模框架上配置间隔件，以覆盖第一镀敷层、掩模框架、间隔件的方式配置膜，对膜的下方侧的空间进行减压，使得膜按压所述间隔件，通过间隔件按压掩模框架，来将掩模框架和所述镀敷层压接。

本发明的一实施方式提供一种蒸镀掩模的制造装置，其包括：载置台，其用于设置包括掩模框架的对象物；间隔件，其位于载置台的上方，与掩模框架接触；位于间隔件的上方的用于按压间隔件的膜；膜固定部，其将膜密接地固定于载置台，载置台包括槽部和设置于槽部中的排气口。

根据本发明，能够提供一种减少剥离不良的蒸镀掩模的制造方法及制造装置。

附图说明

图1A是本发明的一实施方式的蒸镀掩模的俯视图。

图1B是本发明的一实施方式的蒸镀掩模的剖视图。

图2A是表示本发明的一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。

图2B是表示本发明的一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。

图2C是表示本发明的一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。

图2D是表示本发明的一实施方式的蒸镀掩模的制造方法的剖视图。