[发明专利]一种InP晶体生长设备及InP晶体生长方法

权利要求书

1.一种InP晶体生长设备，其特征在于：包括炉体、法兰盖、真空泵和连接管；法兰盖活动连接在炉体顶部，法兰盖与炉体顶部之间设有两道以上的密封圈；法兰盖上设有气孔和观察管；连接管一端与气孔顶部对接连通、另一端设有球阀，真空泵通过管路与连接管的侧壁连通；观察管一端位于法兰盖外侧、另一端穿过法兰盖伸入炉体内；法兰盖内侧中央位置设有可拆卸的籽晶盘；炉体自底部起沿高度方向依次分割为第一温区、第二温区和第三温区；炉体侧壁包括从内到外依次相接的反应釜、保温层、加热层、隔热层和外壳，法兰盖、反应釜、外壳和连接管所用材质均为不锈钢，保温层和隔热层所用材质均为硅酸铝保温棉。

2.如权利要求1所述的InP晶体生长设备，其特征在于：法兰盖包括连接块，连接块沿周边设有连接边；连接块侧壁沿周边设有第一环形凹槽，第一环形凹槽内设有第一环形密封圈，连接块位于反应釜内侧，连接块的侧壁与反应釜的内侧壁通过第一环形密封圈密封；反应釜上端面沿周边开设有第二环形凹槽，第二环形凹槽内设有第二环形密封圈，连接边的下端面与反应釜上端面通过第二环形密封圈密封；第一环形密封圈和第二环形密封圈所用材质均为氟橡胶。

3.如权利要求1或2所述的InP晶体生长设备，其特征在于：观察管包括竖管和横管，横管垂直连通在竖管底部，竖管的底部和横管均位于炉体内侧，竖管的顶部伸出法兰盖，竖管和横管的垂直连接处设有与竖管呈45°的反射镜。

4.如权利要求1或2所述的InP晶体生长设备，其特征在于：观察管包括竖管、第一横管和第二横管，第一横管垂直连通在竖管的顶部、第二横管垂直连通在竖管的底部，且第一横管和第二横管分别位于竖管的两侧，竖管与第一横管的垂直连通处及竖管与第二横管的垂直连通处均设有与竖管呈45°的反射镜。

5.如权利要求1或2所述的InP晶体生长设备，其特征在于：气孔和观察窗分别位于法兰盖中心的两侧；籽晶盘螺纹连接在法兰盖内侧中央位置。

6.如权利要求1或2所述的InP晶体生长设备，其特征在于：外壳上端面设有沿周边分布的第一螺纹孔；法兰盖连接边周边设有第二螺纹孔，第一螺纹孔和第二螺纹孔的数量相等、且一一对应；法兰盖通过同时螺纹连接在对应的第一螺纹孔和第二螺纹孔内侧的螺栓固定。

7.如权利要求1或2所述的InP晶体生长设备，其特征在于：第一温区加热层的底部设有控温热电偶C1，第一温区加热层的侧壁设有控温热电偶C2；第二温区加热层的侧壁设有控温热电偶C3，第三温区加热层的侧壁设有控温热电偶C4；第一温区加热层的侧壁设有测温热电偶T1，第二温区加热层的侧壁设有测温热电偶T2，第三温区加热层的侧壁设有测温热电偶T3。

8.如权利要求1或2所述的InP晶体生长设备，其特征在于：炉体自底部起沿高度方向依次等高度分割为第一温区、第二温区和第三温区。