[发明专利]偏光片及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 202110122980.2 申请日: 2021-01-29
公开(公告)号: CN112946807B 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 景维云 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B1/14;G02F1/1335;B32B27/28;B32B27/36;B32B27/30;B32B27/06;B32B33/00;B32B27/08;B32B27/32;B32B7/023
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 偏光 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种偏光片,其特征在于,包括:

第一保护层;

偏光层,设置于所述第一保护层上;

反射型偏光增亮膜,通过第一胶层贴附于所述偏光层上;以及

第二保护层,设置于所述反射型偏光增亮膜上;

所述反射型偏光增亮膜与所述第二保护层之间设置有应力缓冲层,所述应力缓冲层的材料包括聚乙烯类高分子有机骨架;

所述应力缓冲层与所述偏光层具有相同的拉伸方向以及收缩方向;

所述偏光片还包括开孔,且所述开孔贯穿所述偏光片;

所述反射型偏光增亮膜的开孔区域通过激光预处理形成。

2.根据权利要求1所述的偏光片,其特征在于,所述偏光层与所述第一保护层之间设置有支撑层,且所述支撑层通过第二胶层与所述第一保护层相贴合。

3.一种偏光片的制作方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

采用第一胶层将反射型偏光增亮膜贴附于偏光层上;

制备第一保护层于所述偏光层下;以及

制备第二保护层于所述反射型偏光增亮膜上;

所述制备第二保护层于所述反射型偏光增亮膜上还包括:制备应力缓冲层于所述反射型偏光增亮膜与所述第二保护层之间,且所述应力缓冲层与所述偏光层具有相同的拉伸方向以及收缩方向;

对所述反射型偏光增亮膜的表面进行激光预处理;以及

形成开孔于所述偏光片中。

4.根据权利要求3所述的偏光片的制作方法,其特征在于,所述制备第一保护层于所述偏光层下还包括:制备支撑层以及第二胶层于所述偏光层与所述第一保护层之间,且所述第一保护层通过所述第二胶层与所述支撑层相贴合。

5.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括显示面板、背光模组以及如权利要求1或2所述的偏光片,或采用权利要求3或4所述的偏光片的制作方法制得的偏光片。

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