[发明专利]一种真空源回流系统及清洁设备

权利要求书

1.一种真空源回流系统，包括电机上盖、电机以及电机安装座，所述电机设置在电机安装座内，所述电机上盖设置在电机上方，所述电机上盖与电机安装座配合将电机固定，所述电机安装座设置有第一进风口，所述电机设置有第二进风口以及出风口，所述第二进风口与第一进风口连通，所述出风口与第二进风口连通；所述电机安装座还设置有第一回流口，其特征在于：所述第一回流口与收集箱上对应的第二回流口对接。

2.根据权利要求1所述的真空源回流系统，其特征在于：所述电机上盖底部设置有环形凸起，所述环形凸起将电机上半部遮罩，所述环形凸起位于出风口外部，所述环形凸起最低处低于出风口最高处，且所述环形凸起与电机之间形成有回流通道。

3.根据权利要求2所述的真空源回流系统，其特征在于：所述第一回流口通过回流通道与出风口连通。

4.根据权利要求1所述的真空源回流系统，其特征在于：所述第一回流口与第二回流口连接处采用软质材料进行密封。

5.根据权利要求1所述的真空源回流系统，其特征在于：所述电机安装座上的第一回流口至少位于使用或者直立状态下电机安装座的最低水平位置中的其中一个。

6.根据权利要求1所述的真空源回流系统，其特征在于：所述第一回流口为两个，且对称分布于第一进风口的两侧。

7.根据权利要求1所述的真空源回流系统，其特征在于：所述第一回流口为长条状小孔，且面积不能大于710mm²。

8.根据权利要求1所述的真空源回流系统，其特征在于：所述第二回流口位于第一进风口的外侧。

9.一种清洁设备，包括机身，所述机身包含收集箱以及真空源，其特征在于：在所述真空源上设有如权利要求1~8任一项所述的真空源回流系统。