[发明专利]镁合金表面制备自封孔微弧氧化涂层的电解液及涂层制备方法

权利要求书

1.一种镁合金表面制备自封孔微弧氧化涂层的电解液，其特征在于电解液的组成包括：硅酸盐、氟化物、锆盐、纳米颗粒以及表面活性剂；

其中硅酸盐浓度为10g/L~30g/L，氟化物浓度为3g/L~14g/L，锆盐浓度为5g/L~20g/L，纳米颗粒浓度为0.1~1g/L，表面活性剂浓度为0.001g/L~0.030g/L。

2.如权利要求1所述的镁合金表面制备自封孔微弧氧化涂层的电解液，其特征在于，电解液成分还包括磷酸钠、尿素、磷酸氢钠中的一种或者任意两种或者三种，浓度为3~6g/L。

3.如权利要求1或2所述的镁合金表面制备自封孔微弧氧化涂层的电解液，其特征在于所述硅酸盐为硅酸钠，氟化物为氟化氢铵、氟化钠或氟化钾，所述锆盐为氟锆酸钾，纳米颗粒为氧化铝、氧化锆、氧化铈、氧化锌中的一种或任意两种或任意三种或四种的混合；表面活性剂为甘油、十二烷基苯磺酸钠、硬脂酸中的一种；电解液为中性或弱碱性。

4.一种镁合金表面自封孔微弧氧化涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，样品前处理 将镁合金工件打磨、脱脂、清洗、干燥后安置到电解槽中；

步骤二，电解液的配置 根据权利要求1~3任一项所述电解液进行配置，并且对电解液进行超声处理，超声30min，然后置于电解槽中；

步骤三，微弧氧化 将前处理后的工件浸入步骤二所述电解液中，然后进行微弧氧化。

5.权利要求4所述的镁合金表面自封孔微弧氧化涂层的制备方法，其特征在于：步骤三采用恒压模式微弧氧化，氧化时间为6min~20min。

6.权利要求4或5所述的镁合金表面自封孔微弧氧化涂层的制备方法，其特征在于，步骤三中电参数设定为：正向电压230 V~350 V，负向电压20 V~40 V，频率250 Hz~650 Hz，占空比15%~45%。

7.权利要求4所述的镁合金表面自封孔微弧氧化涂层的制备方法，其特征在于镁合金材料为AZ31、AZ61、AZ91、WE43或AM60。

8.权利要求4所述的镁合金表面自封孔微弧氧化涂层的制备方法，其特征在于涂层厚度为3 ~40 μm。