[发明专利]显示装置在审
| 申请号: | 202110108272.3 | 申请日: | 2021-01-27 |
| 公开(公告)号: | CN113206131A | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
| 发明(设计)人: | 郑鎭九;金东秀;郑泽周;金星民;张庆树;郑光哲;崔庆铉 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司: | 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) 11641 | 代理人: | 李晓伟 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示装置 | ||
1.一种显示装置,包括:
扫描线,沿第一方向设置;
数据线,沿与所述第一方向垂直的第二方向设置,以及
多个单位像素区,与所述扫描线和所述数据线相邻,所述多个单位像素区中的每个包括多个子像素,
其中,所述多个子像素中的至少一个子像素的开口区的一部分与相邻于与所述多个子像素中的所述至少一个子像素对应的单位像素区的单位像素区重叠,并且
所述多个子像素中的所述至少一个子像素的所述开口区的一边在相对于所述第一方向和所述第二方向中的每个倾斜的第三方向上延伸。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述多个单位像素区中的每个包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,并且
所述第一子像素的第一开口区和所述第二子像素的第二开口区在所述第三方向上设置在所述第三子像素的第三开口区的一侧。
3.根据权利要求2所述的显示装置,其中,
所述第一开口区在第四方向上设置在所述第二开口区的一侧,并且
所述第四方向垂直于所述第三方向。
4.根据权利要求2所述的显示装置,其中,
所述第三开口区的一部分与相邻于与所述第三开口区对应的单位像素区在所述第一方向上的一侧的单位像素区重叠,并且
所述第三开口区的另一部分与相邻于与所述第三开口区对应的所述单位像素区在所述第二方向上的一侧的单位像素区重叠。
5.根据权利要求1所述的显示装置,其中,
所述多个单位像素区中的每个包括第一子像素、第二子像素和第三子像素,
所述第一子像素的第一开口区和所述第二子像素的第二开口区在第四方向上设置在所述第三子像素的第三开口区的另一侧,并且
所述第四方向垂直于所述第三方向。
6.根据权利要求5所述的显示装置,其中,
所述多个单位像素区包括:
第一单位像素区;以及
第二单位像素区,在所述第一方向上与所述第一单位像素区的一侧相邻,
所述第一单位像素区的第一开口区在所述第三方向上设置在所述第一单位像素区的第二开口区的一侧,并且
所述第二单位像素区的第一开口区在所述第四方向上设置在所述第二单位像素区的第二开口区的另一侧。
7.根据权利要求6所述的显示装置,其中,
所述多个单位像素区还包括:
第三单位像素区,在所述第二方向上与所述第一单位像素区的一侧相邻;以及
第四单位像素区,在所述第二方向上与所述第二单位像素区的一侧相邻,
所述第一单位像素区的所述第二开口区的一部分与所述第三单位像素区重叠,并且
所述第二单位像素区的所述第一开口区的一部分与所述第四单位像素区重叠。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,
所述第三单位像素区的第三开口区的一部分与所述第一单位像素区重叠,并且
所述第三单位像素区的所述第三开口区的另一部分与所述第四单位像素区重叠。
9.根据权利要求1所述的显示装置,还包括:
第一基板,所述第一基板上设置有所述多个单位像素区;以及
第二基板,面对所述第一基板,
其中,所述多个单位像素区包括:
第一单位像素区;以及
第二单位像素区,在所述第一方向上与所述第一单位像素区的一侧相邻,
所述第一单位像素区包括:
第一子像素、第二子像素和第三子像素;以及
第一间隔物,设置在所述第一基板和所述第二基板之间,并且所述第二单位像素区包括:
第一子像素、第二子像素和第三子像素;以及
第二间隔物,设置在所述第一基板和所述第二基板之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110108272.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:纤维处理系统以及纤维处理方法
- 下一篇:热泵以及其动作方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





