[发明专利]一种净化气相偏二甲肼的方法有效

专利信息
申请号: 202110103387.3 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112844040B 公开(公告)日: 2022-07-15
发明(设计)人: 贾瑛;侯若梦;吕晓猛;沈可可;黄远征 申请(专利权)人: 中国人民解放军火箭军工程大学
主分类号: B01D53/86 分类号: B01D53/86;B01D53/54;B01J27/135;A62D3/176;A62D101/26
代理公司: 北京丰浩知识产权代理事务所(普通合伙) 11781 代理人: 王纯富
地址: 710025 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 净化 气相偏 二甲 方法
【说明书】:

发明公开了一种净化气相偏二甲肼的方法,该方法包括:利用水热和浸渍的方法制备AgBr/TiO2/rGA,并在模拟太阳光下对气态偏二甲肼进行光催化降解。该气凝胶所用制备方法简单,结构稳定,具有较大比表面积,吸附性能好,表面有丰富纳米银颗粒,有助于对可见光的吸收,两种半导体形成的异质结,有助于电子的传输,提高催化性能,且具有光热效应;与现有技术相比,该方法可以利用太阳光的光能和热能,环保可回收,可光催化降解气态偏二甲肼。

技术领域

本发明涉及环境技术领域,涉及降解气相偏二甲肼的催化氧化工艺,特别涉及一种净化气相偏二甲肼的方法。

背景技术

偏二甲肼(UDMH)是火箭和导弹发动机液体推进剂的主要燃料,广泛应用于国防和航天工业。UDMH气体在使用和储存过程中容易产生,具有毒性、恶臭、致突变性和致癌性,需要对其进行处理。在降解产物中,NDMA(N-亚硝基二乙胺)是一种高度致癌物质,美国环境保护局(USEPA)确定饮用水中NDMA的理论致癌风险水平为0.7ng/L。当UDMH在自然条件下暴露时,NDMA会自发产生。在常用的UDMH降解方法中,如添加臭氧或紫外光照射,NDMA含量明显升高。因此,NDMA的水平值得研究;另一方面,UDMH在常温常压下的降解更值得研究,以解决实际中的泄漏问题。

目前对UDMH气相处理的研究主要集中在紫外光灯或高温环境下,但易产生剧毒物质NDMA。在现行相关研究中,Z、R.Ismagilov利用多相催化剂CuxMg1-xCr2O4/Al2O3实现了UDMH的深度催化氧化,在150-400℃的温度范围内产生高CO2产率和低NOx产率,在辐照下通过空穴和其它活性基团将大的有机物催化分解为小的无毒物质。催化湿式过氧化氢氧化(CWPO)结合真空紫外(VUV)辐射技术是近年来发展起来的一种处理高浓度UDMH废水的方法,其处理效果显著,UDMH转化率约为100%。然而,在可见光下,尤其是在流动气体中,光催化剂降解气相UDMH还鲜有研究。

现有技术缺少一种可利用可见光光催化剂、在可见光下降解气相UDMH的有效方法,这已成为亟需解决的问题。

发明内容

鉴于解决现有技术缺陷的目的,本发明提出一种净化气相偏二甲肼的方法。

为实现上述目的,本发明的技术方案为:利用水热和浸渍的方法制备AgBr/TiO2/rGA,利用可见光对气态偏二甲肼进行光催化降解。

优选地,所述水热和浸渍的方法制备AgBr/TiO2/rGA,包括氧化石墨烯(GO)的准备、TiO2/rGA复合材料的制备、AgBr/TiO2/RGA的制备。

优选地,所述氧化石墨烯(GO)的准备,包括如下步骤:以3%~5%混合天然石墨与浓H2SO4,向混合物中添加NaNO3和KMnO4,加入H2O2,过滤溶液并以稀释盐酸洗涤(HCl:H2O=1:20~1:5),获得GO。

优选地,所述TiO2/rGA复合材料的制备,包括如下步骤:将GO、葡萄糖和Ti(SO4)2混匀,置于160℃~200℃保持10h~14h的聚四氟乙烯衬里高压釜中;优选地,所述步骤中聚四氟乙烯衬里高压釜为180℃保持12h。

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