[发明专利]一种光学镀增透膜方法在审
申请号: | 202110102684.6 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN112987137A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 林新锋 | 申请(专利权)人: | 鞍山市激埃特光电有限公司 |
主分类号: | G02B1/115 | 分类号: | G02B1/115 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 114000 辽宁省鞍山市立山区越*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 增透膜 方法 | ||
本发明涉及一种光学镀增透膜方法,在慢拉机中,将光学产品依次放入TiO2‑SiO2、TiO2、TiO2、SiO2胶体溶液中浸泡50~70秒,将产品拉出胶体溶液,90~120℃烘烤50~70秒形成四层光学薄膜,放置空气中自然冷却到常温;最后在烤箱中加热温度控制在200~250℃加热1~2小时,加固膜层。本发明所得光学元件的膜层均匀性好,镀膜稳定;可见光透过率高,使光学元件的透过率达到99%以上。
技术领域
本发明涉及光学元件加工方法技术领域,具体涉及一种光学镀增透膜方法。
背景技术
增透膜被广泛应用于平板显示、激光雷达、光学镜头、车窗玻璃、太阳能电池等多个领域。大部分镀增透膜都是通过光学镀膜机进行电子枪高温蒸镀镀膜加工而成。此镀膜方式虽然能满足绝大部分的光学零件,但是却不能应用于玻璃管镀膜,以及一些大口径异形镜片的镀膜中。其他化学镀膜只能简单镀一层TiO2-SiO2复合物,或者只镀其中一种胶体溶液,无法满足零件的高透过率要求。传统的化学镀膜无法配合高精度的慢拉设备,致使镀出来的膜层均匀性极差。另外TiO2薄膜在光照后,表面会产生羟基,使薄膜达到超亲水状态,从而具有自清洁功能。然而,由于TiO2薄膜的折射率较大,在可见光波段透过率很低,达不到应用的要求。SiO2是一种低折射率的材料,两者虽然可以混合调节其折射率,但是具有一定的限制性。即使TiO2-SiO2复合溶液可以解决膜层之间不匹配和性能下降问题,得到致密的膜层,但是传统的第二层需要硅酸盐溶胶制得,会产生酸性废液,污染环境,其透过性也不会达到很高的效果。
发明内容
本发明的目的在于解决上述问题,提供一种光学镀增透膜方法,本发明将TiO2-SiO2复合溶液和单组分溶液相结合,使用慢拉机进行四次提拉镀膜,形成四层稳定膜层。解决了目前化学镀膜透过率低,镀膜产品形状单一,效率慢的加工难点。
为了解决上述问题,本发明采用的技术方案如下:
一种光学镀增透膜方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)第一次慢拉烘烤:在慢拉机中,将光学产品放入TiO2-SiO2胶体溶液中浸泡50~70秒,将产品拉出TiO2-SiO2胶体溶液,90~120℃烘烤50~70秒形成第一层TiO2光学薄膜,放置空气中自然冷却到常温;
2)第二、三次慢拉烘烤:在慢拉机中,冷却后的光学产品放入TiO2胶体溶液中浸泡50~70秒,将产品拉出TiO2胶体溶液,90~120℃烘烤50~70秒,形成第二层TiO2光学薄膜,放置空气中自然冷却到常温;重复进行此步骤,形成第三层TiO2光学薄膜,放置空气中自然冷却到常温;
3)第四次慢拉烘烤:在慢拉机中,冷却后的光学产品放入SiO2胶体溶液中浸泡50~70秒,将产品拉出SiO2胶体溶液,90~120℃烘烤50~70秒,形成第四层SiO2光学薄膜,放置空气中自然冷却到常温;
4)加固膜层:将镀好四层薄膜的光学产品放入烤箱中加热,加热温度控制在200~250℃,加热1~2小时,然后冷却至室温。
进一步的,所述TiO2-SiO2胶体溶液的制备过程为:
(1)稀盐酸的配制:0.2ml浓盐酸加入100ml水中,所述浓盐酸的质量百分含量为55%;
(2) 5.1gTEOS、3.4gEtOH、0.27ml稀盐酸A和0.31g水,60℃条件下混合搅拌1h,然后冷却至室温;
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