[发明专利]一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法

权利要求书

1.一种低缺陷的193nm光刻胶树脂，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：23～65％极性单体、23～65％非极性单体、25～55％多羟基抗刻蚀单体；所述多羟基抗刻蚀单体具有如下结构：

其中，R₁为氢原子或甲基，m为大于或等于2的整数。

2.根据权利要求1所述的低缺陷的193nm光刻胶树脂，其特征在于，所述抗刻蚀基团为金刚烷、降冰片或环状、笼状化合物中任意一种。

3.根据权利要求2所述的低缺陷的193nm光刻胶树脂，其特征在于，所述多羟基抗刻蚀单体具有如下结构：

其中，R₁为氢原子或甲基，R₂为氧原子或碳原子，R₃为氢原子或分子式为C_nH_2n+1的烷基(n为大于1的整数)，m为等于或大于2的整数。

4.根据权利要求1所述的低缺陷的193nm光刻胶树脂，其特征在于，所述光刻胶树脂的分子量为3000-40000，所述光刻胶树脂的分子量分布低于2.0。

5.一种根据权利要求1-4任一项所述的低缺陷的193nm光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将极性单体、非极性单体、多羟基抗刻蚀单体、过氧化二苯甲酰及反应溶剂充分溶解得到混合液体，其中，所述过氧化二苯甲酰与所述多羟基抗刻蚀单体的质量比为(0.3～0.7)：1，所述反应溶剂与所述过氧化二苯甲酰的体积(mL)质量(g)比为(38～20)：1；

通入氮气对所述混合液体进行除氧25-35min后，置于60-80℃温度下进行加热回流10-16h得到反应溶液；

所述反应溶液用冷水淬灭后滴加至沉淀剂中，滴加的速度为6-10滴/min；

滴加完毕后静置1-1.5h并进行抽滤，得到白色粉末状无规则共聚物即为所述光刻胶树脂。

6.根据权利要求5所述的低缺陷的193nm光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，所述反应溶剂为甲醇、乙醇、二氧六环、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、苯、甲苯、二甲苯、氯仿、二氯乙烷、三氯乙烷、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的一种或多种。

7.根据权利要求5所述的低缺陷的193nm光刻胶树脂的制备方法，其特征在于，所述沉淀剂为纯水、甲醇、甲醇/水混合物、乙醇、乙醇/水混合物、异丙醇、异丙醇/水混合物、正庚烷、正己烷、环己烷、正戊烷、石油醚、乙醚、甲基叔丁基醚中的一种或多种。

8.一种低缺陷的193nm光刻胶，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：1-10％的光刻胶树脂、0.1-5％的光致产酸剂、0.001-1％的添加剂和80-98％的有机溶剂，所述光刻胶树脂为权利要求1-4中任意一种光刻胶树脂。

9.根据权利要求8所述的低缺陷的193nm光刻胶，其特征在于，所述光敏剂为三芳基硫鎓盐或二芳基碘鎓盐；所述添加剂为正丁基胺、叔丁基胺、二甲基胺、二乙基胺、二正丙胺、二异丙基胺、二正丁基胺、二异丁基胺、二叔丁基胺、三甲基胺、三乙基胺、三正丙胺、三异丙基胺、三正丁基胺、三异丁基胺、三叔丁基胺、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、环戊胺、环己胺、吗啡啉、N-甲基环戊胺、甲基苯胺、乙基苯胺、正丁基苯胺、叔丁基苯胺、二甲基苯胺、二乙基苯胺、二丁基苯、二苯基苯胺中的一种或多种。

10.根据权利要求8所述的低缺陷的193nm光刻胶，其特征在于，所述有机溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、丙二醇甲醚醋酸酯、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、甲基乙基酮、环己酮和甲基异丁基酮中的一种或多种。