[发明专利]磁存储装置在审
| 申请号: | 202110101848.3 | 申请日: | 2021-01-26 |
| 公开(公告)号: | CN114267785A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
| 发明(设计)人: | 板井翔吾;大坊忠臣;伊藤雄一;小松克伊 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L43/08 | 分类号: | H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22 |
| 代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 杨林勳 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 存储 装置 | ||
1.一种磁存储装置,其特征在于具备磁阻效应元件及二端子型开关元件,
所述磁阻效应元件具备:
第1磁性层,具有固定的磁化方向;
第2磁性层,具有固定的磁化方向;
第3磁性层,设置在所述第1磁性层与所述第2磁性层之间,具有可变的磁化方向;
第1非磁性层,设置在所述第1磁性层与所述第3磁性层之间;以及
第2非磁性层,设置在所述第2磁性层与所述第3磁性层之间;
所述二端子型开关元件相对于所述磁阻效应元件串联连接,当施加在两端子间的电压达到阈值电压以上时,从非电导通状态变成电导通状态。
2.根据权利要求1所述的磁存储装置,其特征在于,
所述第1磁性层的磁化方向与所述第2磁性层的磁化方向相互平行。
3.根据权利要求2所述的磁存储装置,其特征在于,
所述磁阻效应元件具有:第1电阻状态,所述第3磁性层的磁化方向相对于所述第1及第2磁性层的磁化方向平行;以及第2电阻状态,所述第3磁性层的磁化方向相对于所述第1及第2磁性层的磁化方向反向平行。
4.根据权利要求3所述的磁存储装置,其特征在于,
所述第1电阻状态及所述第2电阻状态是根据所述磁阻效应元件中流动的电流方向而设定。
5.根据权利要求2所述的磁存储装置,其特征在于,
所述磁阻效应元件还具备:
第4磁性层,具有固定的磁化方向;以及
第5磁性层,具有固定的磁化方向;
所述第4及第5磁性层的磁化方向相对于所述第1及第2磁性层的磁化方向反向平行,
所述第1、第2及第3磁性层设置在所述第4磁性层与所述第5磁性层之间。
6.根据权利要求1所述的磁存储装置,其特征在于,
所述第1磁性层、所述第3磁性层及所述第1非磁性层构成第1磁阻效应元件部分;
所述第2磁性层、所述第3磁性层及所述第2非磁性层构成第2磁阻效应元件部分;
所述第1磁阻效应元件部分的MR比与所述第2磁阻效应元件部分的MR比互异。
7.根据权利要求1所述的磁存储装置,其特征在于,
所述第1、第2及第3磁性层具有垂直磁化。
8.根据权利要求1所述的磁存储装置,其特征在于还具备:
第1配线,在第1方向上延伸;以及
第2配线,在与所述第1方向交叉的第2方向上延伸;
所述磁阻效应元件及所述开关元件串联连接在所述第1配线与所述第2配线之间。
9.根据权利要求1所述的磁存储装置,其特征在于,
所述第1、第2及第3磁性层至少含有铁(Fe)及硼(B)。
10.根据权利要求1所述的磁存储装置,其特征在于,
所述第1及第2非磁性层含有镁(Mg)及氧(O)。
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