[发明专利]一种具有钙钛矿同轴异质一维纳米线阵列的光电器件及其制备方法在审
申请号: | 202110095541.7 | 申请日: | 2021-01-25 |
公开(公告)号: | CN114792760A | 公开(公告)日: | 2022-07-26 |
发明(设计)人: | 王丹妹;吴雨辰 | 申请(专利权)人: | 中国科学院理化技术研究所 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 赵晓丹 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 钙钛矿 同轴 异质一维 纳米 阵列 光电 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有钙钛矿同轴异质一维纳米线阵列的光电器件,其特征在于,包括电极层,二氧化硅基底,以及分布在二氧化硅基底上的钙钛矿同轴异质一维纳米线阵列;
所述钙钛矿同轴异质一维纳米线为核壳结构;所述核壳结构以分子式为A1-nBnCX3的钙钛矿作为核层,以分子式为A1-nBnCY3的钙钛矿作为壳层;其中0≦n≦1,A为HC(NH2)2+或CH3NH3+,B为Cs+,C为Ge2+,Sn2+和Pb2+中的一种,X和Y各自独立的为Cl、Br和I中的一种,且X与Y不相同。
2.根据权利要求1所述的光电器件,其特征在于,所述电极层包括厚度为10-30nm的铬层和厚度为80-100nm的金层。
3.根据权利要求1所述的光电器件,其特征在于,所述钙钛矿同轴异质一维纳米线阵列的纳米线的宽度为1-5μm,高度为100-500nm,相邻纳米线之间的间距为2-5μm。
4.一种如权利要求1-3任一所述光电器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)在模板表面滴加分子式为A1-nBnCX3的钙钛矿前驱体溶液,然后在其上覆盖二氧化硅基底,形成三明治结构,烘干使溶剂挥发,得到分布有钙钛矿一维纳米线阵列的二氧化硅基底;
(2)将所述二氧化硅基底有钙钛矿一维纳米线阵列的一面朝上,浸泡在卤素Y离子源溶液中,进行离子交换,随后清洗,加热,得到分布有钙钛矿同轴异质一维纳米线阵的二氧化硅基底;
(3)在所述钙钛矿同轴异质一维纳米线阵列的表面沉积电极层,即得;
其中,所述X和Y各自独立的为Cl、Br和I中的一种,且X与Y不相同。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述钙钛矿前驱体溶液的溶剂选自超干二甲基亚砜和超干N,N-二甲基甲酰胺中的一种或两种。
6.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述钙钛矿前驱体溶液的浓度为10-30mg/mL。
7.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述烘干条件为:温度为50-100℃。
8.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述卤素Y离子源为:油胺氯、油胺溴和油胺碘中的一种;
优选的,所述卤素Y离子源溶液的浓度为1-10mg/mL。
9.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述离子交换的条件为:温度为室温,时间为12-48小时。
10.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述加热条件为:温度为25-165℃,时间为0.5-2小时。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择