[发明专利]一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备

权利要求书

1.一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其结构包括密封盖(1)、沉积装置(2)、控制器(3)、检修门(4)，所述密封盖(1)嵌固在沉积装置(2)内部上端，所述控制器(3)安装于沉积装置(2)侧面，所述检修门(4)与沉积装置(2)侧面采用合页配合，其特征在于：

所述沉积装置(2)设有喷洒机构(21)、固定板(22)、放置台(23)、阻挡机构(24)，所述喷洒机构(21)与放置台(23)位于同一中心轴线上，所述阻挡机构(24)与放置台(23)侧面间隙配合，所述放置台(23)嵌固在固定板(22)上端，所述喷洒机构(21)上端安装于密封盖(1)内部下端，所述阻挡机构(24)卡合在控制器(3)内部侧面。

2.根据权利要求1所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述喷洒机构(21)设有升降杆(21a)、限位机构(21b)、活动杆(21c)、支撑架(21d)，所述升降杆(21a)下端连接在限位机构(21b)上端，所述活动杆(21c)内侧与限位机构(21b)外侧滑动配合，所述支撑架(21d)中间连接在升降杆(21a)中间内侧，所述升降杆(21a)上端安装于密封盖(1)内部下端。

3.根据权利要求2所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述限位机构(21b)设有连接辊(b1)、调整机构(b2)、卡合板(b3)，所述调整机构(b2)嵌固在连接辊(b1)内部，所述卡合板(b3)安装于连接辊(b1)侧面内侧，所述卡合板(b3)与活动杆(21c)内侧滑动配合。

4.根据权利要求3所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述调整机构(b2)设有挤压机构(b21)、活动块(b22)、固定环(b23)，所述活动块(b22)卡合在固定环(b23)内部，所述挤压机构(b21)与活动块(b22)间隙配合，所述固定环(b23)嵌固在卡合板(b3)内部。

5.根据权利要求4所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述挤压机构(b21)设有挤压杆(w1)、橡胶膜(w2)、喷洒口(w3)，所述喷洒口(w3)与挤压杆(w1)位于同一中心轴线上，所述挤压杆(w1)与橡胶膜(w2)间隙配合，所述橡胶膜(w2)卡合在喷洒口(w3)侧面，所述挤压杆(w1)嵌固在活动块(b22)内部侧面。

6.根据权利要求1所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述阻挡机构(24)设有贴合机构(v1)、连接杆(v2)、平移杆(v3)、海绵块(v4)，所述海绵块(v4)贴合在连接杆(v2)下端，所述连接杆(v2)嵌固在平移杆(v3)左侧，所述贴合机构(v1)安装于连接杆(v2)左侧，所述贴合机构(v1)与放置台(23)侧面间隙配合。

7.根据权利要求6所述的一种用于在晶圆上沉积薄膜的设备，其特征在于：所述贴合机构(v1)设有弹簧(v11)、密封槽(v12)、贴合板(v13)、定型块(v14)，所述贴合板(v13)贴合在定型块(v14)左侧，所述密封槽(v12)嵌固在定型块(v14)右侧，所述定型块(v14)安装于弹簧(v11)左侧，所述弹簧(v11)右端焊接在连接杆(v2)左侧。